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[導(dǎo)讀]【導(dǎo)讀】IBM等4公司宣布45nm工藝制造的電路正常動(dòng)作 IBM、新加坡特許半導(dǎo)體制造(Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd.)、德國(guó)英飛凌科技(Infineon Technologies AG)、韓國(guó)三星電子宣布,采用聯(lián)合

【導(dǎo)讀】IBM等4公司宣布45nm工藝制造的電路正常動(dòng)作  
    IBM、新加坡特許半導(dǎo)體制造(Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd.)、德國(guó)英飛凌科技(Infineon Technologies AG)、韓國(guó)三星電子宣布,采用聯(lián)合開(kāi)發(fā)的45nm低耗電工藝生產(chǎn)的電路已首次投入工作(發(fā)布資料)。同時(shí)還宣布,可提供面向該工藝的設(shè)計(jì)工具包。  

    該電路用于新一代通信系統(tǒng)。利用位于紐約州East Fishkill的IBM 300mm生產(chǎn)線生產(chǎn)。該電路使用的標(biāo)準(zhǔn)單元和I/O單元由英飛凌科技開(kāi)發(fā)。調(diào)試電路也由英飛凌科技開(kāi)發(fā)。另外,嵌入內(nèi)存塊由4公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)。  

    2007年底前特許半導(dǎo)體制造、IBM和三星3家公司的生產(chǎn)線將采用45nm工藝,并進(jìn)行評(píng)測(cè)。4家公司在發(fā)布資料中對(duì)該工藝做了評(píng)論。與65nm工藝相比,性能約提高30%,除工藝本身的這種優(yōu)勢(shì)外,還指出了協(xié)調(diào)體制帶來(lái)的兼容GDS-II掩膜布局設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的意義。  
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