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[導(dǎo)讀]致力于投影光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment;SMEE),將于6/17至19來臺參加2014臺北國際光電周暨LED照明展,展出用于封裝以及LED產(chǎn)業(yè)光刻機(jī)設(shè)備。此次,將

致力于投影光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment;SMEE),將于6/17至19來臺參加2014臺北國際光電周暨LED照明展,展出用于封裝以及LED產(chǎn)業(yè)光刻機(jī)設(shè)備。

此次,將展出SSB300系列步進(jìn)投影光刻機(jī),該系列機(jī)臺適用于2~6英寸基底LED的PSS和電極的光刻工藝。可以應(yīng)對大翹曲藍(lán)寶石基底的曝光,能夠?qū)崿F(xiàn)2~6英寸基底的自動切換,能夠在生產(chǎn)中即時監(jiān)測基底面型,保證客戶在使用過程中不再受吸盤污染的困擾。

上海微電子SSB300/10A步進(jìn)投影光刻機(jī),適用于2-6英寸基底LED的PSS和電極的光刻工藝。

采用高性能縮減式物鏡確保亞微米解析度和高曝光均勻性、精密特制運(yùn)動臺系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高精度的圖形拼接與精確的套刻。具有低使用成本、高曝光均勻性、高產(chǎn)能等特點(diǎn),可滿足LED生產(chǎn)線的各種使用要求。除此之外,該系列機(jī)臺還能夠適應(yīng)矽和SiC等多種基底的曝光、可選背面對準(zhǔn)配置,將機(jī)臺的應(yīng)用擴(kuò)展至MEMS領(lǐng)域。

上海微電子裝備有限公司成立于2002年,公司產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于IC制造與先進(jìn)封裝、MEMS、3D-TSV、TFT-OLED、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。上海微電子裝備有限公司致力于以極致服務(wù)、創(chuàng)造高階產(chǎn)品、創(chuàng)造客戶卓越價值,全方位為顧客提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)。

上海微電子裝備有限公司已通過ISO27001資訊安全、ISO9000品質(zhì)管制和ISO14001環(huán)境管理等體系的國際認(rèn)證,力求為客戶提供持續(xù) 、穩(wěn)定、高品質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù),并履行一個優(yōu)秀的高科技企業(yè)的社會責(zé)任。

目前已建立了一整套與高科技企業(yè)相適應(yīng)的智慧財(cái)產(chǎn)權(quán)管理體系與機(jī)制,先后被評為「上海市專利工作和智慧財(cái)產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)」、「全國企事業(yè)智慧財(cái)產(chǎn)權(quán)示范創(chuàng)建單位」。

歡迎業(yè)界先進(jìn)6/17至19蒞臨南港展覽館M951攤位參觀,或上網(wǎng)查詢相關(guān)產(chǎn)品服務(wù):http://www.smee.com.cn/ 。

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