每每提到半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展，免不了要說(shuō)下中國(guó)最近兩年發(fā)展集成電路的決心之強(qiáng)、投資之大，國(guó)內(nèi)公司對(duì)人才也求賢若渴，不惜高薪挖人，但在關(guān)鍵技術(shù)上，我們落后歐美公司還是挺多的，特別是在半導(dǎo)體制造裝備上，先進(jìn)的光刻機(jī)還被歐美封鎖，有錢(qián)也買(mǎi)不到。進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來(lái)越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣(mài)出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過(guò)20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過(guò)1億歐元，可謂價(jià)值連城。

對(duì)于芯片制造，有種戲謔的說(shuō)法是CPU原材料是沙子，憑什么賣(mài)這么貴——這當(dāng)然是玩笑，沙子和晶圓都有二氧化硅成分，但完全是不同的東西，成本更不可比。之前我們也科普過(guò)CPU制造過(guò)程，完成整個(gè)過(guò)程需要很多工序，其中關(guān)鍵部分就是光刻，光刻工藝是這個(gè)制造環(huán)節(jié)是最為復(fù)雜的，成本最為高昂的，因?yàn)楣饪棠０濉⑼哥R、光源共同決定了“印”在光刻膠上晶體管的尺寸大小。

目前的光刻工藝使用的是193nm的紫外光，隨著制造工藝的提升，紫外光光刻技術(shù)也將進(jìn)入EUV極紫外光刻階段，但EUV工藝目前還不夠成熟，產(chǎn)能達(dá)不到大規(guī)模量產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)。

光刻工藝需要光刻機(jī)，全球有能力生產(chǎn)光刻機(jī)的公司不多，日本尼康、佳能也有這方面的技術(shù)，但目前只能混跡低端市場(chǎng)，能玩轉(zhuǎn)高端市場(chǎng)、特別是EUV光刻機(jī)的只有荷蘭ASML公司了，這也是Intel、TSMC、三星等晶圓廠都在爭(zhēng)取的新一代生產(chǎn)裝備。

該公司日前發(fā)布了2016年財(cái)報(bào)，全年?duì)I收67.95億歐元，同比增長(zhǎng)8%，毛利率44.8%，凈利潤(rùn)14.7億歐元，同比增長(zhǎng)6%。

2016年Q4季度新賣(mài)出6臺(tái)EUV光刻機(jī)，如此一來(lái)ASML公司售出的EUV光刻機(jī)總量就達(dá)到了18臺(tái)，總價(jià)值超過(guò)20億歐元，算下來(lái)平均每臺(tái)設(shè)備超過(guò)1億歐元，放在全球來(lái)看，單一設(shè)備能達(dá)到這個(gè)價(jià)格的也沒(méi)幾個(gè)。

根據(jù)ASML公司所說(shuō)，2017年他們預(yù)計(jì)交付12套EUV光刻機(jī)，芯片廠商大規(guī)模量產(chǎn)EUV光刻工藝預(yù)計(jì)會(huì)在2018年底到2019年初，也就是在7nm節(jié)點(diǎn)及之后才會(huì)量產(chǎn)EUV工藝。