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[導讀]國際半導體設備暨材料協(xié)會(SEMI)最新統(tǒng)計,今年全球晶圓廠設備支出將達325億美元(約新臺幣9,720億元),較去年成長2%,而明年預估將有23%至27%的兩位數(shù)驚人成長,達410億美元(約新臺幣1.2兆元),創(chuàng)下歷史高點。

國際半導體設備暨材料協(xié)會(SEMI)最新統(tǒng)計,今年全球晶圓廠設備支出將達325億美元(約新臺幣9,720億元),較去年成長2%,而明年預估將有23%至27%的兩位數(shù)驚人成長,達410億美元(約新臺幣1.2兆元),創(chuàng)下歷史高點。

其中,2013年最大的晶圓廠設備支出來自于晶圓代工產(chǎn)業(yè),該產(chǎn)業(yè)今年晶圓設備支出年增率高達21%,主要來自臺積電(2330)資本支出增加的貢獻。

SEMI更表示,今年下半年的晶圓廠設備支出,預計將較上半年成長32%,達185億美元,原因是下半年半導體需求成長以及芯片平均售價(ASP)提升。

臺積電今年調(diào)高資本支出至100億美元,是貢獻這一波半導體設備支出的最大功臣,SEMI表示,建設支出對是否會有更多設備支出的預測來說是一項很好的指標。

今年晶圓廠蓋廠支出最多的廠商除了臺積電,還有三星電子,各自約計劃花費15至20億美元在興建廠房,而英特爾、格羅方德與聯(lián)電子則緊跟在后,也是2014年全球晶圓設備支出創(chuàng)歷史新高的原因。

除了晶圓代工產(chǎn)業(yè)外,SEMI預估存儲器產(chǎn)業(yè)對晶圓廠設備資本的支出,在去年下降35%后,今年預計只有1%的成長。

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