Therma-Wave 獲得Tokyo-Electron高級關鍵尺寸測量應用的復合系統(tǒng)訂單美國加州弗里蒙特市 2004 年7 月 27 日 -- Therma-Wave公司(納斯達克股票代碼：TWAV）是制程控制測量系統(tǒng)設備中需要用到的半導體開發(fā)、制造及銷售的全球領導者，日前公司宣布 Tokyo Electron Limited (TEL) 再次下單訂購多套 Therma-Wave 集成化測量工具。Therma-Wave 的高級 INTEGRA® CCD-i 關鍵尺寸 (CD) 測量工具將配合 TEL CLEAN TRACK ACT™ 與 CLEAN TRACK™ LITHIUS™ 涂裝/顯影機使用，進行 90 nm 與 65 nm 技術的深度開發(fā)與生產。去年末，Therma-Wave 與 TEL 宣布將共同致力于 CD 測量技術的開發(fā)及產品制造，以期滿足這一區(qū)域不斷增長的客戶需要以及蓬勃發(fā)展的市場機遇。目前，高級 CD 測量產品的裝機量在全球迅速增長。市場分析公司 Dataquest 的資料顯示，CD 市場的總體規(guī)模預計將由 2003 年的 3.51 億美元成長至 2004 年的 5.97 億美元，同期微影測量市場總體規(guī)模也將由 6.60 億美元增至 11.5 億美元。“集成測量技術正逐漸更廣泛地被接受為提高生產力的有力手段，”Therma-Wave 公司“集成化產品暨業(yè)務規(guī)劃部”高級副總裁 James Mitchener 博士說到?！爱斀窨蛻粢恢痹诔惺苤峁└咧瞥绦阅?、生產實用性及制程可重復性等方面的壓力，以期最大限度降低生產損失的風險，提高生產效率及設備產出。我們一直同 TEL 密切配合來迎接這些挑戰(zhàn)，通過不斷向他們提供可實現(xiàn)更高生產力的工具，滿足這些最先進的生產需求”。作為 INTEGRA 成套集成化測量產品的一部分，INTEGRA CCD-i 系統(tǒng)為生產過程中的涂裝/顯影機應用提供了一套集成的 CD 解決方案。給客戶帶來的主要好處包括：通過消除離線 CD 測量造成的時間延遲提高了總體生產力；完整的晶圓至晶圓測量帶來了更高的統(tǒng)計采樣、更嚴密的制程監(jiān)測，使得高級制程控制 (APC) 及新技術的實施成為可能，帶來更高的產出。本文摘自《電子工業(yè)專用設備》