KLA-Tencor Corp.近期宣布，Crolles2 Alliance(Freescale Semiconductor、STMicroelectronics和Philips Semiconductors生產(chǎn)研發(fā)的合作組織)已經(jīng)開(kāi)始采用KLA-Tencor 2800型寬帶深紫外亮場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng)。通過(guò)2800型設(shè)備進(jìn)行65nm工藝的研發(fā)和90nm工藝下的生產(chǎn)，Crolles2可以探測(cè)到缺陷沖擊的臨界效果，KLA-Tencor表示，這此之前的檢測(cè)設(shè)備均無(wú)法實(shí)現(xiàn)此項(xiàng)功能?！拔覀兒芨吲d可以與KLA-Tencor取得合作成功，”Crolles2表示，“通過(guò)針對(duì)KLA-Tencor 2800的研發(fā)，使我們的缺陷研究進(jìn)展提前了近6個(gè)月，同時(shí)每個(gè)月我們都可以發(fā)現(xiàn)在90nm和65nm工藝中的獨(dú)特應(yīng)用?！盋rolles2表示將進(jìn)一步提高KLA-Tencor 2800的檢測(cè)能力。寬帶深紫外/紫外/可見(jiàn)光圖形化圓片檢測(cè)工具可以實(shí)現(xiàn)不同層面的所有缺陷的檢測(cè)，KLA-Tencor表示，作為23XX紫外/可見(jiàn)光亮場(chǎng)檢測(cè)平臺(tái)的延續(xù)，2800已經(jīng)開(kāi)始被應(yīng)用于試驗(yàn)線和生產(chǎn)廠。自2005年推出以來(lái)，2800已經(jīng)陸續(xù)被安裝于邏輯、存儲(chǔ)器和晶圓代工的生產(chǎn)線中。