英特爾明年底才有可能推出7nm工藝,盡管從技術上來說英特爾的10nm工藝可能比后兩家的7nm工藝更好,但是進度落后已經讓英特爾備受壓力,現(xiàn)在這個差距可能還要擴大,臺積電斥資250億美元砸向5nm工藝,明年初就要試產,最快2019年底就要量產。
下半年是智能手機市場傳統(tǒng)旺季,市場原本預期在蘋果A12應用處理器擴大7納米晶圓投片下,臺積電第三季營收可望季增15~20%幅度。不過,隨著近期業(yè)界傳出蘋果下修今年新款iPhone銷售預估,A12晶圓投片量低于去年的A11晶圓,加上近期比特幣價格崩跌,加密貨幣挖礦運算ASIC投片需求急凍,法人圈已將臺積電第三季營收季增率下修至10%或以下。
三星公司宣布與ARM達成了合作協(xié)議,雙方將共同優(yōu)化7nm及未來的5nm ARM芯片,Cortex-A76處理器可以實現(xiàn)3GHz+的高頻率。
臺積電已經決定增加7納米制程的產能,用以協(xié)助AMD不僅生產GPU芯片,還包括7納米的CPU芯片,特別是Zen 2架構的新一代EPYC服務器芯片。
增強版7nm芯片Tape out將在今年第三季進行風險性試產,明年量產。同時,明年也會將EUV導入增強版7nm制程,5nm則會在2019年上半年風險性試產,主要的應用是高速運算。
臺灣地區(qū)中科管理局長陳銘煌表示,此案環(huán)差通過審查,將有助于臺積電加速推動7納米生產制程,并取得半導體制程領先國際的先機。
Intel最近麻煩不斷,前CEO科贊奇因為與女下屬的戀情而離職,Intel正在尋找新的CEO,選擇什么樣的CEO繼續(xù)帶領Intel至關重要。Intel最近股票下跌,還被分析師下調評級,重要原因是公司內部出了問題,工藝延期、產品路線
驍龍1000的CPU最高TDP可以達到6.5W,平臺總TDP為12W,目前驍龍845的平臺TDP約不到5W。更高的TDP功耗,加上全新的ARM架構,新平臺的性能應該要比現(xiàn)有的驍龍平臺提升很大,看來與Intel的超低功耗系列處理器還是可以一戰(zhàn)的。
臺積電已經開始向超過20位大客戶提供7nm制程工藝的樣片,其中包括蘋果、AMD、Nvidia,據(jù)悉首批搭載7nm制程工藝的產品將會在2018年下半年或者2019年初期正式流片或出樣。
魏哲家說,半導體是一個非?;镜男袠I(yè),就像創(chuàng)辦人張忠謀所言,半導體會像是日常生活不可或缺的面包、飯;隨著5G與人工智能(AI)新技術來臨,世界會發(fā)生重大變動。
臺積電的首款7nm工藝叫做N7,預計將于2018年第二季度投入量產。這意味著N7目前已經準備好進行大規(guī)模生產,但是在本月底之前可能會做一些小的調整。
臺積電稱其7納米制程為“N7”,該公司于本季度開始批量生產這些芯片。7納米芯片的銷售預計將在今年第四季度占該公司銷售額的20%,占2018年銷售總額的10%。明年,臺積電的N7 +將推出,該工藝將采用EUV光刻技術。三星將在今年下半年開始量產7nm EUV芯片,該技術將使芯片制造商能夠簡化硅晶片上蝕刻設計的過程。
日前供應鏈傳出,嘉楠耘智新一代ASIC同樣在臺積電投片,且由上一代的16nm跳到7nm,并計劃在7月量產,在先進制程的使用上,進度比頭號競爭對手比特大陸更快。不過這一消息未得到臺積電的證實。
AMD現(xiàn)階段的12nm工藝技術處理器晶片雖然面積沒有減少,但是進步表現(xiàn)在主頻的提升上。官方表示,至于7nm工藝技術,將和英特爾10nm工藝相似,但是明顯7nm的應用周期會更長一些。
半導體芯片這東西跟別的不一樣,雖然臺積電、GF或者三星都有7nm工藝,但是每家的技術并不一樣,不是說線寬都是7nm生產出來的芯片就是一樣的,所以同時使用兩家晶圓代工廠會帶來很多問題,早前蘋果在A9處理器上就同時使用了臺積電16nm及三星14nm工藝,不同的測試顯示兩家的處理器性能、功耗都不一樣,給蘋果惹了不少麻煩,所以后面就只用一家代工廠了。
AMD日前宣布,7nm的Zen 2處理器和MI 25(Vega Refesh)都已經設計完成,前者預計年底試樣。 根據(jù)官方說法,Zen 2將是對Zen架構多維度地改進;7nm+的Zen 3也正有序推進,預計2020年與大家見面。Zen的首席架構師Mike Cl
昨晚,AMD發(fā)布了最新一波新品路線圖,其中第二代Ryzen ThreadRipper(銳龍線程撕裂者)宣布出樣,三款新品包括16核心旗艦2950X、12核心2920X、8核心2900X,預計會和二代銳龍類似,憑借新工藝新架構(12nm Zen+),進一步提升頻率、降低延遲,熱設計功耗則有望維持在180W或者略有增加。
Synopsys設計平臺獲得TSMC工藝認證,支持高性能7-nm FinFET Plus工藝技術,已成功用于客戶的多個設計項目。 針對7-nm FinFET Plus工藝的極紫外光刻技術,IC Compiler II 進行了專門的優(yōu)化,進一步節(jié)省芯片面積。 采用TSMC的Wafer-on-Wafer®(WoW)技術,平臺內全面支持多裸晶芯片堆疊集成,從而提高生產效率,加快實現(xiàn)大批量生產。
entor, a Siemens business 宣布,該公司 Calibre® nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS™) Platform 中的多項工具已通過TSMC最新版5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝的認證。Mentor 同時宣布,已更新了 Calibre nmPlatform 工具,可支持TSMC的晶圓堆疊封裝 (WoW)技術。Mentor 的工具和 TSMC 的新工藝將協(xié)助雙方共同客戶更快地為高增長市場提供芯片創(chuàng)新。
臺積電下半年7nm發(fā)威,可望獨拿蘋果iPhone新機的A12處理器訂單 ,并將跨足MacBook處理器領域。