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半導體設備制造商ASML四季度凈利4.07億歐元
北京時間1月19日下午消息，歐洲最大的半導體設備制造商荷蘭阿斯麥控股公司(ASMLHoldingNV)發(fā)布第四季度財報，由于2010年銷量創(chuàng)歷史記錄，其第四季度利潤超過之前分析師預測。阿斯麥今日報道稱，公司第四季度凈利潤為
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荷蘭阿斯麥發(fā)布第四季度財報
歐洲最大的半導體設備制造商荷蘭阿斯麥控股公司(ASMLHolding NV)發(fā)布第四季度財報，由于2010年銷量創(chuàng)歷史記錄，其第四季度利潤超過之前分析師預測。阿斯麥報道稱，公司第四季度凈利潤為4.07億歐元(5.49億美元)，而去
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2011半導體設備業(yè)的十大預測
2011年全球半導體設備業(yè)中會發(fā)生什么？以下是巴克萊Capital的著名分析師CJ Muse收集各種報告后的匯總?cè)缦拢?.Fab tool upturn?半導體設備業(yè)仍是增長 會看到2011年半導體設備業(yè)的投資可能持平，或者有5-10％之間的
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2011半導體設備業(yè)的十大預測
2011年全球半導體設備業(yè)中會發(fā)生什么？以下是巴克萊Capital的著名分析師CJ Muse收集各種報告后的匯總?cè)缦拢?.Fab tool upturn?半導體設備業(yè)仍是增長 會看到2011年半導體設備業(yè)的投資可能持平，或者有5-10％之間的
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2011年半導體設備市場十大預測
2011年半導體設備市場將會出現(xiàn)哪些情況？以下是投資銀行Barclays Capital 分析師C.J. Muse收集業(yè)界各方信息所列出的十項預測。1. 半導體設備市場景氣向上？ Muse表示，半導體廠商資本支出趨勢，有從持平朝增加5~1
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2011年半導體設備市場十大預測
戶的雙倍光刻訂單(包括浸潤式光刻設備與EUV)，該市場將保持強勁成長。BarclaysCapital將2011年浸潤式光刻設備市場的出貨量預測，由原先估計的130臺上修為138臺，2010年的出貨量則估計為115臺；在這138臺出貨中，內(nèi)存
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2011年半導體設備市場十大預測
2011年半導體設備市場將會出現(xiàn)哪些情況？以下是投資銀行Barclays Capital 分析師C.J. Muse收集業(yè)界各方信息所列出的十項預測。1. 半導體設備市場景氣向上？ Muse表示，半導體廠商資本支出趨勢，有從持平朝增加5~1
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VLSI Research公布第三季度半導體設備廠商排名
VLSIResearch預測稱2010第四季度半導體設備市場有所降溫，全年半導體設備銷售額預計增長96%，達到474億美元。TokyoElectron和Advantest在排名前十的設備廠商中獲得最大的增長幅度。AppliedMaterials和ASML繼續(xù)保持領
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VLSI Research公布第三季度半導體設備廠商前十名單
VLSI Research預測稱2010第四季度半導體設備市場有所降溫，全年半導體設備銷售額預計增長96%，達到474億美元。Tokyo Electron和Advantest在排名前十的設備廠商中獲得最大的增長幅度。Applied Materials和ASML繼續(xù)保持
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光罩、光阻問題大 EUV機臺量產(chǎn)路途遙
微影設備大廠艾司摩爾(ASML)首臺深紫外光(EUV)機臺已正式送到客戶端進行裝機，日前，ASML也用EUV機臺試產(chǎn)出首片27奈米半間距(half pitch)的芯片。不過，目前EUV除成本高昂外，光罩檢測與光阻為目前EUV進入量產(chǎn)的兩大
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晶圓廠資本支出 明年估增23%
國際半導體設備材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會（SEMI）昨（9）日發(fā)布最新全球晶圓廠預測報告指出，2011年全球包括三星、英特爾、臺積電（2330）等晶圓廠在制程相關設備的投資金額，預估將提高23%達到400億美元，超越2007年，創(chuàng)下19年來
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EUV機臺
深紫外光(EUV)技術是次世代微影技術之一，其他還還包括無光罩多重電子束、浸潤式微影多重曝光技術等，EUV技術主要的開發(fā)商是設備大廠愛司摩爾(ASML)，當半導體制程技術走入20奈米或是10奈米以下，現(xiàn)有的浸潤式曝光(I
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ASML TWINSCAN系統(tǒng)實現(xiàn)新的里程碑
ASML近日宣布，兩位使用TWINSCAN 光刻機的芯片制造商實現(xiàn)了生產(chǎn)新紀錄，即在24小時內(nèi)實現(xiàn)了超過4000片晶圓的處理。這個里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實現(xiàn)的，兩家使用者為亞洲的不同客戶。設備幫助他們提高了300mm
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ASML TWINSCAN系統(tǒng)實現(xiàn)新的里程碑 每日處理晶圓超越4000片
ASML近日宣布，兩位使用TWINSCAN 光刻機的芯片制造商實現(xiàn)了生產(chǎn)新紀錄，即在24小時內(nèi)實現(xiàn)了超過4000片晶圓的處理。這個里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實現(xiàn)的，兩家使用者為亞洲的不同客戶。設備幫助他們提高了300mm
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東芝展望EUV曝光技術量產(chǎn)在即或需要與雙圖案化技術并用
東芝在荷蘭阿斯麥（ASML）公司于2010年11月18日在東京舉行的“ASML/BrionComputationalLithographySeminar2010”會議上，展望了引進EUV（超紫外線）曝光技術進行量產(chǎn)的前景。東芝統(tǒng)管光刻技術開發(fā)的東木達彥表示“即
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東芝展望EUV曝光技術量產(chǎn)在即
東芝在荷蘭阿斯麥(ASML)公司于2010年11月18日在東京舉行的“ASML/Brion Computational Lithography Seminar 2010”會議上，展望了引進EUV(超紫外線)曝光技術進行量產(chǎn)的前景。東芝統(tǒng)管光刻技術開發(fā)的東木達
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ASML高層：看好明年半導體資本支出
道瓊社、ThomsonReuters報導，歐洲半導體設備業(yè)龍頭ASMLHoldingNV財務長PeterWennink19日在摩根士丹利年度科技媒體電信(TMT)大會上表示，明年度半導體業(yè)的資本支出將增加，該公司客戶的需求強勁使得前置時間達10個月
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ASML高層看好明年半導體資本支出
道瓊社、Thomson Reuters報導，歐洲半導體設備業(yè)龍頭ASML Holding NV財務長Peter Wennink 19日在摩根士丹利年度科技媒體電信(TMT)大會上表示，明年度半導體業(yè)的資本支出將增加，該公司客戶的需求強勁使得前置時間達1
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EUV光刻機價格暴漲至近億美元
多年以前，VLSI Research公司的總裁Risto Puhakka曾經(jīng)預測稱：“EUV光刻系統(tǒng)將乏人問津，其售價有可能提升到1.25億美元的水平?！碑敃r幾乎所有的人都認為他是在滿嘴跑火車，可是如今，越來越多的廠商開始停止采購這種
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次世代微影技術主流之爭
目前次世代微影技術發(fā)展仍尚未有主流出現(xiàn)，而身為深紫外光 (EUV)陣營主要推手之一的比利時微電子研究中心(IMEC)總裁Luc Van den hove指出，EUV技術最快于2014年可望進入量產(chǎn)，而應用存儲器制程又將早于邏輯制程，他也
