消息，近日有外媒報道稱中國員工竊取荷蘭公司阿斯麥（ASML Holding N.V）商業(yè)機密并泄露給中國政府，ASML就是此前中芯國際購買1.2億美元EUV光刻機的賣方，幾乎是中芯國際2017年的全部凈利潤，“ASML中國員工竊密”一事也得到了半導體行業(yè)的廣泛關注。

圖片來自ASML官網(wǎng)

了解到，消息出自荷蘭一家當?shù)孛襟w（Financieele Dagblad），該媒體報道稱，幾名中國籍雇員從ASML的美國子公司竊取商業(yè)機密，導致ASML虧損數(shù)億美元。

相關報道指出，這些中國籍雇員是ASML公司研發(fā)部員工，有訪問ASML美國圣何塞分公司內(nèi)部網(wǎng)絡的許可權，他們利用職務之便竊取了設備的源代碼、軟件、公司定價策略和供內(nèi)部使用的設備手冊，并將信息傳遞給ASML的競爭對手XTAL公司。

那么，XTAL是否真的竊取ASML商業(yè)機密了呢？起碼從法院判決來看，確實是這樣。2018年11月，ASML公司以“盜用商業(yè)機密”為由將XTAL告上法庭，法院正式裁決，XTAL必須向ASML支付2.33億美元的賠償金，然而一個月后，XTAL公司即申請破產(chǎn)。

XTAL于2014年在美國硅谷成立，雖然成立時間比ASML晚了十幾年，但是由于ASML一家獨大的市場地位，客戶還是希望有幾家公司同時競爭，比如三星就是XTAL的客戶，不過顯然XTAL沒能突破ASML的技術加商業(yè)壁壘。

在4月11日外交部發(fā)言人陸慷主持的例行記者會上，有記者問到，“荷蘭某財經(jīng)媒體報道稱，荷蘭半導體業(yè)ASML公司的中方高管竊取該公司商業(yè)機密，造成公司巨額損失，并稱這些技術被泄露給了中國政府。中方是否得知此事？對此有何評論？”

陸慷答：我們注意到有關報道，但不了解你提到的具體情況。實際上，中國和荷蘭在科技領域一直保持著良好的合作。我們多次重申，中國政府高度重視知識產(chǎn)權保護。我們一向要求海外的中國公民和企業(yè)遵守駐在國法律。

至于中國自身，中國的科技發(fā)展一不靠偷，二不靠搶，是中國人民用自己的智慧和汗水，辛勤奮斗出來的。

涉及到芯片和大國關系等敏感話題，ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink也是第一時間做出回應，ASML不同意它曾成為“中國間諜”的受害者。

“我們在某種程度上是國家陰謀的受害者的言論是錯誤的。事實是，我們被硅谷的一小部分員工‘搶劫’，他們違反法律以‘損公肥私’。所有這一切都發(fā)生在幾年前。我們自己發(fā)現(xiàn)了這一點，并于2016年立即在公共法庭尋求法律訴訟。在我們于2018年11月官司勝利后，在幾份報道表明了這一觀點，“Peter Wennink說。

ASML官方表示，這些擁有各種國籍的員工竊取的掩模優(yōu)化軟件，是ASML產(chǎn)品和服務組合中的一小部分，目的是創(chuàng)建一個競爭產(chǎn)品并將其出售給韓國現(xiàn)有的ASML客戶（應該是三星），XTAL的資金有一部分來自韓國。目前尚不清楚2.33億美元的賠償可以從現(xiàn)在破產(chǎn)的XTAL公司收回到什么程度。

“我們反感任何有關此事件對ASML在中國開展業(yè)務有任何影響的建議。有些人恰好是中國公民，但其他國家的人也參與其中。我們確實謹慎地保護我們的專有知識，并且對信息安全非常敏感。我們相信，可以為包括中國客戶在內(nèi)的所有客戶提供服務，并幫助他們建立業(yè)務。最近歐盟與中國之間的建設性談判和協(xié)議令中國加強尊重和保護非中國公司的知識產(chǎn)權，包括有效的執(zhí)法行動，當我們看到這些在中國法律和審判中得到實現(xiàn)時，我們對此感到鼓舞”，溫寧說。

ASML官網(wǎng)資料顯示，ASML在16個國家的60多個城市設有辦事處，總部位于荷蘭Veldhoven，員工超過23000名。

“生產(chǎn)決定消費”，ASML在半導體行業(yè)的地位就是這么不可取代，即便是英特爾、三星和臺積電也只能等ASML供貨。甚至在ASML的研發(fā)進展緩慢時，三家大廠注資數(shù)十億美元幫助ASML開發(fā)EUV光刻工藝及18英寸晶圓，可見光刻機的門檻之高。

EUV光刻機透視圖（摘自ASML官網(wǎng)）

顧名思義，光刻機就是用光來刻電路，光刻機（Mask Aligner) 又名掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝），生產(chǎn)集成電路簡要可以分為三步：

利用模版去除晶圓表面的保護膜。

將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路。

用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)。

這個過程類似照片沖印，光線經(jīng)過鏡頭把景物影象聚焦在膠片上，膠片上的感光劑隨光發(fā)生變化，膠片上受光后變化了的感光劑經(jīng)顯影液顯影和定影形成和景物相反或色彩互補的影象。光刻集成電路的載體成了晶圓，成像變成了電路。

芯片被譽為工業(yè)石油，光刻機則被譽為半導體行業(yè)的明珠，目前ASML已經(jīng)占據(jù)行業(yè)絕對統(tǒng)治地位，一方面是高端工藝無人能及，另一方面是市場占有率非常高，尾隨其后的尼康和佳能技術較之相差一兩代。2017年全球光刻機總出貨294臺，ASML出貨198臺，占有68%的市場份額。更高端的EUV光刻機方面，ASML占有率100%。

物以稀為貴，2017年ASML單臺EUV機平均售價超過1億歐元，2018年一季度的售價更是接近1.2億歐元，但就這樣還是有價無市，產(chǎn)能有限

EUV光刻機中的EUV指的是是波長13.5nm的極紫外光，普通的DUV光刻機使用的是193nm的深紫外光，EUV光刻機可以大幅提升半導體工藝水平，實現(xiàn)7nm及以下工藝，更重要的，這是半導體摩爾定律能延續(xù)下去的基礎，當下摩爾定律并不是芯片設計的問題，純粹是材料工藝度不達標，ASML能夠提供更精密的設備，在產(chǎn)業(yè)的幾乎最上游。

按照英特爾的規(guī)劃，EUV光刻機本來早在2005年就應該投入使用，但是這顯然低估了材料學的難度，EUV波長僅有13納米，光線能量和破壞性極高，制程的所有零件、材料，樣樣挑戰(zhàn)工藝極限，機械動作誤差要以皮秒（兆分之一秒）計。

對于志在發(fā)展國內(nèi)半導體行業(yè)的我國來說，光刻機也是必須要突破的一環(huán)，2018年底，國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”29日通過驗收，該光刻機由中國科學院光電技術研究所研制，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術后，未來還可用于制造10納米級別的芯片。

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