工程師們對(duì)半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展前景憂喜參半；他們認(rèn)為半導(dǎo)體制程藍(lán)圖可再延續(xù)十年，但也可能因?yàn)槿狈π碌墓庾鑴┗瘜W(xué)材料而遭遇發(fā)展瓶頸。

在一場(chǎng)于美國(guó)硅谷舉行之年度半導(dǎo)體微影技術(shù)研討會(huì)(編按：SPIE Advanced Lithography)的晚間座談上，工程師們對(duì)半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展前景憂喜參半；他們認(rèn)為半導(dǎo)體制程藍(lán)圖可再延續(xù)十年、達(dá)到1奈米節(jié)點(diǎn)，但也可能因?yàn)槿狈π碌墓庾鑴?resist)化學(xué)材料，而在3奈米節(jié)點(diǎn)之前就遭遇發(fā)展瓶頸。

這場(chǎng)座談會(huì)試圖輕松看待早就被預(yù)言的「摩爾定律(Moore’s Law)將死」議題，也凸顯了令人不安的不確定因素，盡管那都是會(huì)在新一代芯片發(fā)展過(guò)程中不斷自然產(chǎn)生的種種挑戰(zhàn)。

目前三星(Samsung)已經(jīng)開(kāi)始使用極紫外光(EUV)微影技術(shù)生產(chǎn)7奈米組件，臺(tái)積電(TSMC)也預(yù)計(jì)在6月開(kāi)始量產(chǎn)采用EUV微影的強(qiáng)化版7奈米制程(N7+)。而微影設(shè)備大廠ASML希望在今年透過(guò)升級(jí)其EUV系統(tǒng)(3400C)來(lái)服務(wù)這兩家客戶，并承諾達(dá)到每小時(shí)170片晶圓的生產(chǎn)速率和90 %以上的稼動(dòng)率(availability)。

ASML計(jì)劃在今年升級(jí)現(xiàn)有EUV系統(tǒng)。（來(lái)源：ASML）