日本出臺對韓限制出口政策引發(fā)韓國企業(yè)跳腳，《媒體》更進一步指出，由日本獨占市場的光罩基底（Mask Blank）可能成為下一個犧牲品，外界擔憂，三星電子EUV工程（極紫外光）可能因此受沖擊。

據《媒體》報道，日本可能增加的限制品項包含集成電路（IC）、電源管理IC（PMIC）、光刻設備、離子注入機、晶圓、光罩基底等。如果日本增加出口限制項目，新增的項目也得取得個別許可，需耗費90天左右的審查時間。

值得注意的是，除EUV制程用的光刻膠沒有其他替代品，日本企業(yè)在晶圓、光罩基底市場中，市占率非常高。光罩基底是曝光工程中光掩模的原料，在半導體微細化工程中極具重要性。業(yè)界認為，三星電子主力的EUV工程屬于微細工程的新一代技術，韓國生產的光罩基底仍無法取代日本制的產品。

NH投資證券研究員都賢宇（音譯）分析，EUV工程用的光罩基底目前由豪雅（HOYA）獨家生產，韓國企業(yè)S-Tech雖然也有生產光罩基底，但技術力仍有些不足。

以光刻膠來說，雖然工程中有許多種類和層次，但核心部分是使用技術領先的日本制產品。EUV用光刻膠由JSR、信越化學工業(yè)等日本企業(yè)提供，韓國Dongjin Semichem等企業(yè)仍在開發(fā)相關產品中。

都賢宇指出，目前EUV工程中的原料，只有光刻膠被限制出口，但EUV工程尚未進入量產階段。這也代表，即使原料中斷供應，短期也只會影響示范生產線，問題是，華城的EUV生產線將于明年1月進入量產。

業(yè)界相關人士認為，三星電子核心產業(yè)之一是系統(tǒng)半導體，EUV則是引領該產業(yè)的技術，若日韓關系持續(xù)惡化，韓國半導體的未來堪憂。除此之外，臺積電、英特爾等競爭企業(yè)也在積極發(fā)展EUV工程，外界擔憂，情況若惡化，三星電子恐怕要讓出業(yè)界領頭羊的位置。