除了臺積電，三星如今在工藝方面也是十分激進(jìn)：7nm 7LPP去年十月投產(chǎn)之后，按照官方最新給出的時(shí)間表，6nm 6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn)，5nm 5LPE今年內(nèi)完成流片、明年上半年量產(chǎn)，4nm 4LPE也會在年內(nèi)設(shè)計(jì)完畢。

不同于以往間隔多年推出一代全新工藝，臺積電和三星如今都改變打法，一項(xiàng)重大工藝進(jìn)行部分優(yōu)化升級之后，就會以更小的數(shù)字命名。

按照三星給出的技術(shù)路線圖，6LPP、5LPE、4LPE其實(shí)都是在7LPP工藝基礎(chǔ)上演化而來的，要一直到3nm(3GAE/3GAP)才會是全新的設(shè)計(jì)，預(yù)計(jì)會使用全新的結(jié)構(gòu)和材料。

7nm也是三星第一次使用EUV極紫外光刻，6/5/4nm上勢必會進(jìn)一步加強(qiáng)。6LPP相比7LPP會將晶體管密度提升約10％，同時(shí)功耗更低，但會沿用7LPP上最初設(shè)計(jì)的IP。

5LPE會在性能、功耗、核心面積上進(jìn)一步提升，不過核心IP還是7LPP的那一套，不過由于EUV應(yīng)用更深入，三星預(yù)計(jì)6LPP、5LPE工藝的應(yīng)用范圍也會更廣，而且5nm明年迅速就會成為主流。

4LPE將會是7LPP的終極進(jìn)化版本，預(yù)計(jì)2020年首次流片，2021年的某個時(shí)候量產(chǎn)。