Mentor,a Siemens business日前宣布，其Tanner?模擬/混合信號(AMS)設計工具—Tanner S-Edit原理圖輸入工具和Tanner L-Edit版圖編輯器—現(xiàn)已獲得認證，可用于TSMC的可互操作的PDK(iPDK)，適用于廣泛的TSMC專有工藝技術，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的模擬IC設計。

Mentor的Tanner AMS設計工具經(jīng)過優(yōu)化，可創(chuàng)建全定制模擬或“Analog on Top”混合信號集成電路(IC)，適用于22nm及以上工藝。許多領先的IC供應商使用Mentor的Tanner工具為廣泛的市場(包括汽車、可穿戴設備和工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)(IoT)領域)設計高度復雜的AMS設備。

“在全球增長速度最快的市場當中，很多市場對專用AMS芯片的需求越來越大，這些芯片能夠無縫銜接模擬和數(shù)字世界。Mentor的Tanner工具經(jīng)過專門設計，旨在幫助IC設計人員滿足這一日益增長的需求，同時為創(chuàng)建高度創(chuàng)新的AMS設計提供一個理想的平臺?！盡entor,a Siemens business的集成電路設計系統(tǒng)部總經(jīng)理Greg Lebsack表示，“適用于支持模擬IC設計的TSMC專有工藝的Tanner AMS工具已獲得認證，這對我們的客戶來說是個好消息，它有助于加快上市時間和降低風險。對我們的共同客戶來說，Mentor Tanner AMS解決方案與TSMC專有工藝結合用于模擬IC設計是真正的強強聯(lián)合。”

TSMC 用于專有工藝技術的iPDK可幫助芯片制造商滿足前沿AMS IC設計的特定要求。Mentor的AMS工具現(xiàn)已獲得認證，可用于許多晶圓代工廠的 iPDK，包括22nm超低功耗、28nm高性能計算、40nm混合信號技術以及適用于當今最先進的模擬IC的其他專有工藝技術。

“我們與Mentor之間的長期合作可確保能在特殊節(jié)點為我們雙方的客戶提供成功設計和制造芯片所需的EDA解決方案和服務以及相關支持，”TSMC設計基礎架構管理事業(yè)部高級總監(jiān)Suk Lee表示，“這項合作成果結合了TSMC的專有工藝技術與Mentor的高級設計工具，幫助我們的客戶在汽車、智能可穿戴設備和工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)等廣泛的市場領域中獲得創(chuàng)新成功?！?/span>