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[導(dǎo)讀]最近產(chǎn)品類文章寫得偏多,回歸下技術(shù)文章,最近有朋友在問:沒有qrcTechfile文件,用captable可以不?沒有指定process node可以不?

最近產(chǎn)品類文章寫得偏多,回歸下技術(shù)文章,最近有朋友在問:

  1. 沒有qrcTechfile文件,用captable可以不?

  2. 沒有指定process node可以不?


先看第二問題,為什么要設(shè)置process node:

例:setDesignMode -process 40

setDesignMode [-help] [-reset] [-addPhysicalCell {hier | flat}][-congEffort {low|medium|high|auto}][-dual_rail_via_pitch min_via_pitch min_filler_via_pitch cell_boundary_spacing][-earlyClockFlow {true|false}][-expressRoute {true|false}][-flowEffort {express|standard|extreme}][-ignore_followpin_vias {true|false}][-pessimisticMode {true|false}][-powerEffort {none|low|high}] [-process integer][-slackWeighting {unityWeighting|viewBasedWeighting}]


隨著先進(jìn)工藝已經(jīng)進(jìn)入到3nm階段,EDA工具對Delay計算的準(zhǔn)確度變得十分具有挑戰(zhàn)性,Cadence設(shè)置如下表參數(shù),通過setDesignMode -process 40可以直接全局配置Cadence相關(guān)參數(shù)為40nm模式,增強(qiáng)避免多次配置,同時提高了RC提取精度。


再看第1個問題。沒有qrcTechfile文件,用captable可以不?

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  • 32nm及以上工藝,要么用qrcTechfile文件,要么用captable。

  • 若qrcTechfile和captable都沒有,Innovus會利用默認(rèn)工藝參數(shù)生成一個captable,但精度會差很多。

  • 32nm及以下更先進(jìn)工藝則必須要qrcTechfile。

  • 每個tech corner都需要一個對應(yīng)的captable/qrcTechfile



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