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當(dāng)前位置:首頁 > 廠商動態(tài) > TOSHIBA東芝半導(dǎo)體
[導(dǎo)讀]中國上海,2025年9月25日——東芝電子元件及存儲裝置株式會社(“東芝”)今日宣布,推出采用東芝最新一代工藝[1]U-MOS11-H制造的100V N溝道功率MOSFET“TPH2R70AR5”。該MOSFET主要面向開關(guān)電源等應(yīng)用,適用于數(shù)據(jù)中心和通信基站使用的工業(yè)設(shè)備。產(chǎn)品于今日開始正式出貨。

中國上海,2025年9月25日——東芝電子元件及存儲裝置株式會社(“東芝”)今日宣布,推出采用東芝最新一代工藝[1]U-MOS11-H制造的100V N溝道功率MOSFET“TPH2R70AR5”。該MOSFET主要面向開關(guān)電源等應(yīng)用,適用于數(shù)據(jù)中心和通信基站使用的工業(yè)設(shè)備。產(chǎn)品于今日開始正式出貨。

100V U-MOS11-H系列優(yōu)化了器件結(jié)構(gòu),進(jìn)一步改善了U-MOSX-H系列的漏源導(dǎo)通電阻(RDS(ON))、總柵極電荷(Qg)以及這兩者(RDS(ON)×Qg)之間的平衡,從而降低了導(dǎo)通及開關(guān)損耗。

與U-MOSX-H系列產(chǎn)品TPH3R10AQM相比,TPH2R70AR5的RDS(ON)降低了約8%,Qg降低了37%,RDS(ON)×Qg改善了42%。此外,它還可通過應(yīng)用壽命控制技術(shù)[2]實現(xiàn)高速體二極管性能,從而降低反向恢復(fù)電荷(Qrr)并抑制尖峰電壓。與TPH3R10AQM相比新產(chǎn)品的Qrr改善約38%,RDS(ON)×Qrr改善約43%。這些業(yè)界領(lǐng)先[3]的RDS(ON)×Qg和RDS(ON)×Qrr平衡特性[4]可最大限度降低功耗,從而提高電源系統(tǒng)的效率和功率密度。新產(chǎn)品還采用SOP Advance (N)封裝,具有與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)高度兼容的貼裝特性。

東芝現(xiàn)在還提供以下兩款電路設(shè)計支持工具:可在短時間內(nèi)驗證電路功能的G0 SPICE模型,以及可精確再現(xiàn)瞬態(tài)特性的高精度G2 SPICE模型。

未來東芝將繼續(xù)擴(kuò)大其低損耗MOSFET的產(chǎn)品線,為實現(xiàn)更高效的電源以及降低設(shè)備功耗做出貢獻(xiàn)。

? 應(yīng)用:

- 數(shù)據(jù)中心和通信基站等工業(yè)設(shè)備的電源

- 開關(guān)電源(高效率DC-DC轉(zhuǎn)換器等)

? 特性:

- 低漏源導(dǎo)通電阻:RDS(ON)=2.7mΩ(最大值)(VGS=10V、ID=50A、Ta=25°C)

- 低總柵極電荷:Qg=52nC(典型值)(VDD=50V、VGS=10V、ID=50A、Ta=25°C)

- 低反向恢復(fù)電荷:Qrr=55nC(典型值)(IDR=50A、VGS=0V、–dIDR/dt=100A/μs、Ta=25°C)

? 主要規(guī)格:

注:

[1] 截至2025年9月,東芝的低壓功率MOSFET工藝。東芝調(diào)查。

[2] 壽命控制技術(shù):利用Pt擴(kuò)散工藝在半導(dǎo)體中引入缺陷,故意縮短載流子壽命,可提高開關(guān)速度,進(jìn)而可提高二極管的恢復(fù)速度并降低噪聲。

[3] 截至2025年9月,與其他適用于工業(yè)級100V N溝道功率MOSFET相比。東芝調(diào)查。

[4] RDS(ON)×Qg=120mΩ·nC(典型值),RDS(ON)×Qrr=127mΩ·nC(典型值)

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