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當(dāng)前位置:首頁 > > 艾思后端實現(xiàn)

書接上文(點擊查看前文:淺談芯片低功耗的設(shè)計實現(xiàn)(上)),在低功耗的道路上,看看還有什么大招可以用

  • Vt cell的應(yīng)用

從上一篇文章可以看到,不同Vt下的cell特性是不同的,現(xiàn)在的工藝都會提供不同傾向的Vt庫,見下表

可以看到,合理使用不同的Vt cell可以滿足不同PPA的需求,在使用過程中,應(yīng)該優(yōu)先使用SVT的cell,而后是LVT,最后萬不得已的時候再使用ULVT(ULVT的leakage可不是一般的大啊,一般會達到SVT的四到五倍的量級)
工具可以完美支持mix-Vt的設(shè)計。工具的策略是,在功耗優(yōu)化的過程中,根據(jù)用戶設(shè)定的Vt等價置換規(guī)則,在不影響timing的情況下,選擇leakage小的cell,這樣在兼顧性能的時候可以滿足power的需求。
由于,后端實現(xiàn)的時候,通常由三個階段需要用到這個技術(shù)手段,這里給出一個通常的應(yīng)用場景供大家參考

秘籍:一定要做最后一步,效果會非常顯著,可以有效地提高leakage power。

  • 版圖優(yōu)化

在版圖實現(xiàn)當(dāng)中,后端實現(xiàn)的工具是非常靈活的,低功耗的設(shè)計當(dāng)中,經(jīng)常會使用到power-domain和voltage-area這些技術(shù)來優(yōu)化power,簡單的講,通過UPF,在設(shè)計里邊定義一些switch-off power和always domain,在某些功能不使用的時候,就把SW domain關(guān)掉,這個時候,SW里的power-gating cell的輸出會呈現(xiàn)出一個無線接近電源(footer power-gating)或者地(header power-gating)的狀態(tài),從而理論上確保了SW domain的leakage是零(但是,這是指理論的,由于power gating cell本身會有漏電的問題,所以零的漏電只是理論上的)。
這里可以引申出一系列的思路,版圖工程師可以盡可能的讓更多的cell放到SW domain,從而在實際使用的情境下,可以拿到更好的功耗。看一下這個例子:

一條路徑,從SW1出發(fā)到達SW2,中間一共有四級,其中SW里邊有一個buffer和一個isolation,AO里邊,有兩個buffer ,從power上講,在SW1和SW2同時關(guān)斷的時候,這兩個AO的buffer,不會有任何的動態(tài)功耗(dynamic power),這是因為SW1的isolation的輸出已經(jīng)被鉗位(clamp)到無效態(tài)(一個常值),但是這兩個buffer的leakage power是不能省略的,所以下圖的floorplan,從power優(yōu)化上來講一定是個更好的選擇


可以看到,中間的級數(shù)沒有發(fā)生改變,但是之前的buffer1和buffer2,都已經(jīng)被放置到了SW domain了,這樣,在SW關(guān)斷的時候,這兩個buffer的leakage power就是零(理論上)。這里只是一個連接和兩個buffer的示例,實際中VA之間的連接非常復(fù)雜,通過版圖的優(yōu)化調(diào)整,可以讓出更多的leakage power。
低功耗設(shè)計是一套完整的理論體系,從原理、代碼、UPF、綜合、版圖等等,每個步驟的一點點提高,都會帶來不同程度的優(yōu)化,勿以優(yōu)化小而不為,點點滴滴的進步就會造就更加節(jié)能的芯片實現(xiàn)。

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