突破！國產(chǎn)28nm光刻機交付在即

時間：2020-06-08 11:33:55

關鍵字：光刻機

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[導讀]據(jù)報道，上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺第一臺28nm的immersion式（沉浸式）光刻機。雖然與當前主流荷蘭的7nm乃至是5nm芯片制備工藝還有大的差距，但也標志著國產(chǎn)光刻機的飛躍進步，在逐漸減少與荷蘭ASML公司差距，畢竟在

據(jù)報道， 上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺第一臺28nm的immersion式（沉浸式）光刻機。

雖然與當前主流荷蘭的7nm乃至是5nm芯片制備工藝還有大的差距，但也標志著國產(chǎn)光刻機的飛躍進步，在逐漸減少與荷蘭ASML公司差距，畢竟在此之前國產(chǎn)光刻機還是90nm。

上海微電子是國內(nèi)技術最領先的光刻設備廠商，從低端切入各個細分市場，現(xiàn)已成為封測龍頭企業(yè)的重要供應商， 國內(nèi)市場占有率高達80%，全球市場占有率也有40%， 同時旗下LED/MEMS/功率器件光刻機性能指標領先，LED光刻機市占率第一。

上海微電子現(xiàn)有4大系列的光刻機產(chǎn)品，其中600系列步進掃描投影光刻機面向IC前道制造，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調(diào)焦調(diào)平技術，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術，可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產(chǎn)。

500系列面向IC后道先進封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。

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