光刻機是半導體芯片生產過程中的關鍵設備，光刻機所使用的光源波長直接決定著芯片的工藝級別。例如，目前最先進的芯片制程7nm\5nm等，都離不開EUV極紫外光刻機，而這種光刻機的全球唯一供應商就是荷蘭阿斯麥ASML。

最近，?荷蘭阿斯麥 ASML 首席財務官 Roger Dassen 在財報會議的視頻采訪中談及與中芯國際等中國客戶的業(yè)務情況。

Roger Dassen 表示，如果廣泛地來理解美國規(guī)章制度對 ASML 的總體含義(對于特定的中國客戶)，則意味著 ASML 將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供 DUV 光刻系統(tǒng)，且無需出口許可證。不過，如果涉及直接從美國運往此類客戶的零件或系統(tǒng)，ASML 則需要為此申請出口許可證。

21ic家注意到，最近，ASML公布了其第三季度財報，在該季度ASML一共交付了10臺EUV系統(tǒng)，并實現了14臺系統(tǒng)的銷售收入，總銷售額達到40億歐元。同時，第三季度的新增訂單達到29億歐元，其中5.95億歐元來自4臺EUV設備。

財報中還公布了其兩大系列光刻機產品的最新進展。

其中，在EUV光刻業(yè)務領域，絕大部分TWINSCAN NXE:3400B系統(tǒng)在客戶處同時進行了生產率模組的升級。同時，ASML還公布了其EUV路線圖上的最新機型：TWINSCAN NXE：3600D，該EUV光刻機實現了30mJ/cm2的曝光能量達到每小時160片晶圓，生產率提高了18%，并改進了機器匹配套刻精度至1.1納米。該新型EUV光刻機預計2021年中期開始發(fā)貨。

在DUV光刻業(yè)務領域，ASML在本季度對第一臺TWINSCAN NXT：2050i進行了質量認證，并于第四季度初發(fā)貨。NXT：2050i是基于NXT平臺的新版本，其中包括掩模版工作臺，晶圓工作臺，投影物鏡和曝光激光器的技術改進。由于采用了這些創(chuàng)新，該系統(tǒng)提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產率。NXT：2050i已進入批量生產階段。

來源：21ic王麗英整理