在這篇文章中，小編將對(duì)光譜分析儀的投射測(cè)定以及影響光譜分析儀測(cè)量的內(nèi)在因素的相關(guān)內(nèi)容和情況加以介紹以幫助大家增進(jìn)對(duì)光譜分析儀的了解程度，和小編一起來閱讀以下內(nèi)容吧。

一、光譜分析儀引言

光譜分析儀，是一種用于測(cè)量發(fā)光體的輻射光譜，即發(fā)光體本身的指標(biāo)參數(shù)的儀器。光譜分析就是從識(shí)別某些元素的特征光譜來鑒別元素的存在(定性分析)，而這些光譜線的強(qiáng)度又與試樣中該元素的含量有關(guān)，因此又可利用這些譜線的強(qiáng)度來測(cè)定元素的含量(定量分析)。

二、光譜分析儀的投射測(cè)定

光譜儀的透射率或它的效率可用輔助單色儀裝置來測(cè)定。在可見和近紫外實(shí)現(xiàn)這些測(cè)量沒有任何困難。測(cè)量通過第一個(gè)單色儀的光通量，緊接著測(cè)量通過兩個(gè)單色儀的光通量，以這種方式來確定第二個(gè)單色儀的透射率。

絕對(duì)測(cè)量需要知道單色儀的絕對(duì)透射率：對(duì)于相對(duì)測(cè)量，以各種波長(zhǎng)處的相對(duì)單位可以測(cè)量透射率。真空紫外線的這些測(cè)量有相當(dāng)大的實(shí)驗(yàn)困難，因此通常使用輔助單色儀。在各種入射角的情況下分別測(cè)量衍射光柵的效率。在許多實(shí)驗(yàn)步驟中已成功地避免了校準(zhǔn)上的困難。

曾經(jīng)研究過光柵效率與波長(zhǎng)、入射角、鍍層厚度、鍍層材料以及其它因素的關(guān)系。所有這些測(cè)量都指出，在許多情況下能量損失是非常顯著的，并且光柵的效率低于1%，光柵的不同部分可能有明顯不同的效率。

三、影響光譜分析儀測(cè)量的內(nèi)在因素

在了解了光譜分析儀的投射測(cè)定的相關(guān)內(nèi)容后，我們?cè)賮砜纯从绊懝庾V分析儀測(cè)量的一些內(nèi)在因素。

1. 物理干擾

物理干擾是指在樣品轉(zhuǎn)移和蒸發(fā)過程中任何物理因素變化引起的干擾效應(yīng)。屬于此類干擾的因素包括：測(cè)試溶液的粘度、溶劑的蒸氣壓、霧化氣體的壓力等。物理干擾是非選擇性干擾，對(duì)樣品元素的影響基本相似。

制備類似于測(cè)試樣品的標(biāo)準(zhǔn)樣品是消除物理干擾的常用方法。當(dāng)樣品的成分未知或無(wú)法匹配時(shí)，可以使用標(biāo)準(zhǔn)添加方法或稀釋方法來減少和消除物理干擾。

2. 化學(xué)干擾

化學(xué)干擾是指由測(cè)試元件與其他組件之間的化學(xué)相互作用引起的干擾效應(yīng)。它主要影響測(cè)試元件的原子化效率，并且是原子吸收分光光度法中干擾的主要來源。這是由于在液相或氣相中被測(cè)元素的原子與干擾物質(zhì)的組成之間形成了熱力學(xué)更穩(wěn)定的化合物，這影響了被測(cè)元素化合物的離解和原子化。

消除化學(xué)干擾的方法包括：化學(xué)分離; 使用高溫火焰; 加入釋放劑和保護(hù)劑等。

3. 電離干擾

高溫下原子的電離會(huì)降低基態(tài)原子的濃度，并導(dǎo)致原子吸收信號(hào)降低，這種干擾稱為電離干擾。電離效應(yīng)隨溫度和電離平衡常數(shù)的增加而增加，而隨被測(cè)元素濃度的增加而減小。添加更容易電離的堿金屬元素可以有效消除電離干擾。

4. 光譜干擾

光譜干擾包括譜線重疊、光譜通帶內(nèi)存在非吸收線、原子化池內(nèi)的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當(dāng)采用銳線光源和交流調(diào)制技術(shù)時(shí)，前3種因素一般可以不予考慮 ，主要考慮分子吸收和光散射地影響，它們是形成光譜背景的主要因素。

5. 分子吸收干擾

分子吸收干擾是指由原子化過程中產(chǎn)生的氣體分子，氧化物和鹽分子吸收輻射引起的干擾。光散射是指在霧化過程中生成的固體顆粒會(huì)散射光，從而使散射光偏離光路，并且無(wú)法被檢測(cè)器檢測(cè)到，從而導(dǎo)致高吸收值。

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