
這個玻璃夾(黑色矩形,上中心)用于固定掩膜,其中包含要轉(zhuǎn)移到硅片的芯片圖案。?
用于固定光照的玻璃夾的近景。
ASML 使用這款由 KUKA Robotics 制造的橙色機器人在潔凈室地板上移動重型 EUV 機器。?當 Jos Benschop 于 1997 年加入 ASML 時,他已經(jīng)離開了 Phillips 一段時間,并涉足了一個擔心其未來的芯片行業(yè)。幾十年來,芯片制造工程師已經(jīng)掌握了光刻技術(shù)。這個概念很簡單。你設(shè)計芯片的組件——它的導(dǎo)線和半導(dǎo)體——然后將它們蝕刻成一系列“掩?!保拖衲阒谱饕粋€模板來在 T 恤上放置圖案一樣。然后將每個掩模放在硅片上并通過它照射光線(大致相當于在模板上噴漆)。光使“光刻膠”(resist)變硬,這是晶片表面的化學層;然后其他化學品將該圖案蝕刻到硅中。在 60 年代,芯片制造商在此過程中使用可見光,波長小至 400 納米。然后他們轉(zhuǎn)向 248 nm 的紫外光,并逐漸將其降低到 193 nm——通常稱為深紫外光。?但是到了 90 年代末,他們已經(jīng)盡可能縮小了深紫外線的范圍,而且他們不確定如何縮小。他們似乎需要一個新的光源。當時的 ASML 是一家只有 300 人的小公司,曾成功銷售其深紫外光刻工具。但他們意識到,為了保持相關(guān)性,他們需要進行一些認真的研發(fā)。?Benschop 是一位身材高大、棱角分明的高管,態(tài)度熱情而詼諧,他被聘為該公司新項目的第一位研究員工。他開始參加每年舉行兩次的大型會議。在那里,來自主要芯片公司和政府機構(gòu)的深思熟慮的人會摸著下巴,爭論下一步使用哪種形式的光。?“What would be thenext kid on the block?”去年夏天我們在 Zoom 上講話時 Benschop 就是這么說的。專家們琢磨了幾個選項,都存在很大的問題。一個想法是使用離子噴霧在芯片上繪制圖案;那會奏效,但沒有人能想出如何大規(guī)模地快速做到這一點。發(fā)射電子束也是如此。有些人主張使用波長很小的 X 射線,但他們也面臨著挑戰(zhàn)。最后的想法是極紫外線,其波長可以低至 13.5 納米——非常接近 X 射線。看起來不錯。?問題是 EUV 需要一種全新形式的光刻機?,F(xiàn)有的使用傳統(tǒng)的玻璃透鏡將光聚焦到晶片上。但是 EUV 光會被玻璃吸收;它停止死亡。如果你想聚焦它,你就必須開發(fā)像太空望遠鏡中使用的那樣的曲面鏡。更糟糕的是,EUV 甚至會被空氣吸收,因此您需要使機器內(nèi)部成為完全密封的真空。你需要可靠地產(chǎn)生 EUV 光;沒有人知道如何做到這一點。?英特爾和美國能源部都修改過這個想法。但這些主要是實驗室實驗。要創(chuàng)建可行的芯片制造光刻機,您需要開發(fā)可以快速工作并批量生產(chǎn)芯片的可靠技術(shù)。?經(jīng)過三年的深思熟慮,2000年ASML決定賭上公司,押注EUV。他們是一家小公司,但如果他們能做到這一點,他們就會成為一個巨人。?Benschop 回憶說,要解決的工程問題太多了,“我們沒有動力自己做?!币虼?,ASML 的高管們開始召集為其現(xiàn)有機器制造組件的公司。第一個電話打給了蔡司,這家德國光學公司多年來一直為 ASML 制造玻璃鏡片。?蔡司的工程師擁有 EUV 方面的經(jīng)驗,包括為 X 射線望遠鏡制造極其精密的透鏡和反射鏡。訣竅是在 EUV 反射鏡的表面涂上交替的硅和鉬層,每層只有幾納米厚。它們共同產(chǎn)生了一種圖案,可以反射多達 70% 的 EUV 光。?問題在于如何打磨它們。這臺機器最終需要 11 個鏡子來反射 EUV 光并將其聚焦在芯片上,就像 11 個乒乓球運動員將球從一個球彈到另一個球目標一樣。由于目標是蝕刻以納米為單位的芯片組件,因此每個鏡子都必須非常光滑。而最微小的缺陷會使 EUV 光子誤入歧途。?
左圖:這種拋光的光學元件是能量傳感器的一部分,有助于控制光刻機內(nèi)部的光強度。右圖:仔細觀察拋光裝置。此處顯示的玻璃片以一定角度設(shè)置,以實現(xiàn)正確的斜角。
這些拋光單元用于平滑進入 ASML 的 EUV 機器的組件。
一些像左上角所示的光學器件經(jīng)過機械拋光。一個組件可能會在多階段拋光過程中花費數(shù)周時間,技術(shù)人員會檢查到納米精度的平滑度。
這些渦輪分子泵去除空氣和其他氣體,以在 EUV 機器內(nèi)部產(chǎn)生真空——這一點至關(guān)重要,因為 EUV 光會被空氣吸收。泵以 30,000RPM 的速度旋轉(zhuǎn)并逐個排出單個氣體分子。
這個位于 ASML 圣地亞哥工廠的桌面實驗裝置用于測試液滴發(fā)生器組件——EUV 機器光源的一部分。
光刻機內(nèi)部的反射鏡會積聚來自 EUV 光源的錫碎屑。鏡子被清潔和拋光后,這臺機器用于檢查它們。
EUV 光源位于 ASML 潔凈室的測試臺中。
華為要搶的不是風頭,而是客戶。






據(jù)彭博社2月9日的消息,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)警告稱,一家此前被指控竊取其商業(yè)機密的中國公司的關(guān)聯(lián)公司已開始銷售疑似侵犯其知識產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品。
關(guān)鍵字: ASML 光刻機 知識產(chǎn)權(quán)