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[導讀]技術(shù)背景 在PMP個人媒體播放器等便攜式應用中,TFT液晶顯示器已成為主流配置。雖然TFT液晶顯示器具有圖像清晰、對比度高等優(yōu)點,但其耗電占了PMP系統(tǒng)耗電的70%以上。隨著分辨率不斷提高,屏幕加大,顯示器的功耗也

技術(shù)背景

在PMP個人媒體播放器等便攜式應用中,TFT液晶顯示器已成為主流配置。雖然TFT液晶顯示器具有圖像清晰、對比度高等優(yōu)點,但其耗電占了PMP系統(tǒng)耗電的70%以上。隨著分辨率不斷提高,屏幕加大,顯示器的功耗也同步增長。由于液晶顯示器的光源利用率不足10%,降低亮度并不能有效地節(jié)省電力,迫不得已的辦法是盡可能減少顯示屏的工作時間,或者是采用盡可能小的顯示屏,結(jié)果使觀賞舒適性降低,導致PMP的實用價值大打折扣。

理想的適合于便攜用途的顯示技術(shù)應在電池供電環(huán)境下有盡可能長的工作時間、盡可能小的體積、盡可能高的畫面質(zhì)量,既可產(chǎn)生滿足個人獨立觀看的優(yōu)質(zhì)小畫面,又能產(chǎn)生供多人觀賞的投影畫面等特性。
現(xiàn)有的各類顯示器,根據(jù)成像的基本方式,可以分為像素單元主動發(fā)光形成畫面和像素單元被動發(fā)光形成畫面兩大類。

在像素單元主動發(fā)光形成畫面的顯示技術(shù)中,先后出現(xiàn)了陰極射線管CRT顯示技術(shù)、等離子平板PDP顯示技術(shù)、表面?zhèn)鲗Оl(fā)射SED顯示技術(shù)、碳納米管場發(fā)射CNT顯示技術(shù)、有機電致發(fā)光二極管OLED顯示技術(shù)。在這些顯示技術(shù)中,有機電致發(fā)光顯示器是唯一可小型化的技術(shù),但是,OLED為電流驅(qū)動型顯示技術(shù),電流強度與顯示亮度成正相關關系,對于便攜式應用,功耗仍然較高。

在像素單元被動發(fā)光形成畫面的顯示技術(shù)中,先后開發(fā)出了控制光線透射程度來實現(xiàn)顯示的液晶LCD顯示技術(shù),控制光線反射程度實現(xiàn)顯示的硅基液晶LCOS顯示技術(shù),控制光線反射角度實現(xiàn)顯示的數(shù)字微鏡DMD顯示技術(shù)和單微鏡-掃描鏡顯示技術(shù),利用干涉原理實現(xiàn)顯示的干涉調(diào)節(jié)iMoD顯示技術(shù),利用衍射原理實現(xiàn)顯示的光柵光閥GLV顯示技術(shù)。這些技術(shù)當中,iMoD干涉調(diào)節(jié)顯示技術(shù)是最適合于便攜應用的技術(shù)之一,與LCD顯示器借助于偏振光來形成顯示不同, iMoD顯示技術(shù)利用干涉原理產(chǎn)生彩色,光線通過不同厚度的氣隙時產(chǎn)生不同的光程差,形成不同的顏色。圖1所示為iMoD顯示器樣機。雖然具有極其優(yōu)越的節(jié)電性能,但無論是對比度還是亮度,都與TFT顯示器差距甚遠。這是由于iMoD顯示技術(shù)所特有的彩色形成方式?jīng)Q定的。這樣的亮度和對比度遠遠不足以用來產(chǎn)生較大畫面的投影影像。因此,不能同時滿足既可產(chǎn)生優(yōu)質(zhì)小畫面,又可產(chǎn)生大幅投影畫面的便攜應用理想要求。

硅基液晶LCOS技術(shù)雖然同時具有微型顯示和投影顯示應用的能力,但仍然需要借助于液晶的偏振光效應來控制光線的透過率。采用偏振光方式工作,將損失50%光源能量,光利用率依然不高。更重要的原因還在于LCOS的制造工藝復雜,良品率一直難以提高,短期內(nèi)難以成為理想的便攜顯示技術(shù)的優(yōu)選者。

數(shù)字微鏡DMD是最為成功的基于微機電系統(tǒng)MEMS的顯示技術(shù),采用高壓汞燈作為照明光源時,可產(chǎn)生極大尺寸的優(yōu)質(zhì)投影畫面,用R、G、B三基色LED更換大功率照明燈,可以構(gòu)成小體積的便攜投影儀。圖2所示為TI公司開發(fā)的袖珍投影儀,使用LED光源,不用色輪,通過高速切換紅、綠、藍圖像,進行彩色顯示,采用前投方式,可在投影機前方約1m處投射約40~50英寸、分辨率為800 600的DVD影像。這種利用時序方式來實現(xiàn)彩色顯示的模式,不僅要求LED要有足夠快的響應速度,而且要求驅(qū)動電路也必須具有極高的速度指標,這不僅增加了系統(tǒng)成本,也增加了系統(tǒng)功耗。對便攜應用而言,照明光源消耗的電力依然較高。因此,DMD顯示技術(shù)仍以固定地點的投影應用為主,不是理想的便攜應用顯示技術(shù)。

與DMD不同的另一種掌上便攜投影儀是圖3所示的日本信號試制成功的單微鏡-掃描鏡投影技術(shù)。該技術(shù)不同于DMD的一個像素對應一個微鏡,而是一個微鏡對應多個像素,再利用掃描部件形成畫面。采用該方式,雖然可以減小微鏡所占用的半導體芯片面積,降低成本,但掃描部件不僅具有較高的精度要求,而且還存在著機械磨損等問題。更重要的一點還在于,需要解決響應速度高達數(shù)MHz至數(shù)十MHz的綠色半導體激光器還不能量產(chǎn)的障礙后,才能真正形成商品。

GLV是基于衍射原理唯一成功實現(xiàn)彩色顯示的技術(shù),具有較高的光源利用率,采用激光作為光源時,可產(chǎn)生極大畫面的影像。然而, GLV技術(shù)同樣由于半導體激光光源等原因,一直未成為被消費者廣泛接受的商品。
在現(xiàn)有顯示技術(shù)均不能滿足理想便攜顯示應用要求的情況下,開發(fā)一種既節(jié)電,又能產(chǎn)生優(yōu)質(zhì)小畫面和投影大畫面的顯示技術(shù)是很有必要的。閃耀光柵數(shù)字微鏡顯示技術(shù)(Blazed Grating Digital Micromirro Display Technology)開創(chuàng)了一種高效顯示的新途徑。

閃耀光柵數(shù)字微鏡的工作原理

閃耀光柵已發(fā)明很久,應用主要集中在光譜分析、通訊領域,將閃耀光柵應用于畫面顯示的理論基礎是閃耀光柵高效的分色原理。 當狹窄、凸凹相間、具有波長尺度范圍、有反射能力的槽型結(jié)構(gòu)并排排列時,就構(gòu)成了反射型衍射光柵。衍射光柵對入射光的振幅或相位產(chǎn)生周期性的空間調(diào)制,產(chǎn)生光的分色作用,對于單色光,則改變光的傳播方向。

GLV顯示技術(shù)基于衍射光柵的原理工作。在硅基底的頂部分布著細小的條形狀金屬條,這些金屬條與硅基底之間具有很小的縫隙,在金屬條與硅基底之間施加電壓時,電場力的作用下,金屬條就會下移。固定的金屬條和移動的金屬條之間就具有了高度差,形成反射型衍射光柵。用固定波長的單色光照射衍射光柵時,就會產(chǎn)生衍射光,在衍射光射出的路徑上設置投影鏡頭,即可得到單色亮點;控制金屬條下移,即可控制單色亮點;控制一條光柵可得到一維條形圖案,加上掃描器,即可得到二維畫面。

從GLV工作原理的描述可以得知,GLV是通過改變光柵的節(jié)距周期來調(diào)制光線的。金屬動條未下移時,與固定條在一個平面上,節(jié)距周期消失,不產(chǎn)生衍射;金屬動條下移,構(gòu)成節(jié)距周期等于金屬條寬度與金屬條之間縫隙之和的固定節(jié)距光柵。由于這種光柵結(jié)構(gòu)的特殊性,確定了GLV只能利用較高級次(典型值為1級次)的衍射光作為成像光。而處于較低級次的零級次衍射光占據(jù)了衍射光的絕大部分能量,因此利用1級次衍射光來產(chǎn)生畫面的GLV所具有的最高理論衍射效率為40.5%。

閃耀光柵不僅具有很高的分色能力,而且還具有將零級次衍射光的絕大部分能量轉(zhuǎn)移到所需級次上的能力,衍射效率可達到100%。設計適當?shù)拈W耀角,就能使復合白色光產(chǎn)生的RGB三基色光處于最高衍射效率范圍內(nèi)。用閃耀光柵作為顯示畫面的光調(diào)制器,就能最大限度地提高光源的利用率。

根據(jù)閃耀光柵的分色原理,用復合白色光源以固定的入射角照射可轉(zhuǎn)動的閃耀光柵微鏡,可在一個固定的方向上得到由白色光源直接產(chǎn)生的RGB三基色,控制閃耀光柵微鏡轉(zhuǎn)動到產(chǎn)生紅R、綠G、藍B、三基色以及暗態(tài)的4個固定位置,三個閃耀光柵微鏡就可以構(gòu)成一個真彩色的像素單元,用脈寬調(diào)制方式確定閃耀光柵微鏡在每個位置上的停留時間,可使各個子像素所對應的三基色具有不同的亮度,三個子像素不同亮度、不同基色的組合,就可以產(chǎn)生一個像素所需的各種彩色,多個像素組成陣列,即可構(gòu)成顯示畫面。圖4所示為用普通20瓦鹵素照明燈在距光柵15厘米處照射用于測試的3 4反射型衍射光柵測試陣列,得到的彩色實像圖案。從任何角度觀察,都不影響觀察效果。圖5所示為漫射光環(huán)境下,3 4反射型衍射光柵形成的彩色圖。圖6為太陽光照射3 4反射型衍射光柵生成的彩色投影圖像。若將用于測試的衍射光柵更換為閃耀光柵,彩色畫面的亮度、對比度以及色飽和度還會更好。

與GLV通過控制光柵節(jié)距的有無以產(chǎn)生畫面不同,閃耀光柵數(shù)字微鏡顯示技術(shù)是通過改變復合白色光線的入射角來形成畫面的。在閃耀光柵數(shù)字微鏡部件的驅(qū)動電極上施加電壓,在電場力的作用下,閃耀光柵偏轉(zhuǎn)到四個預定位置并準確定位。由于閃耀光柵微鏡僅需在四個固定的位置上轉(zhuǎn)動,所以可工作于數(shù)字方式,避免了模擬工作方式需精確控制驅(qū)動電壓、嚴格要求加工過程一致性和材料特性一致性的高要求,降低了制造難度。

設計和仿真

閃耀光柵數(shù)字微鏡顯示技術(shù)的核心部件基于微機電系統(tǒng)MEMS技術(shù)設計和制造。設計基于MEMS的部件時,需要進行機電部件運動設計、基于有限元結(jié)構(gòu)分析的結(jié)構(gòu)設計和微尺度下的動力設計。與傳統(tǒng)尺度下機電系統(tǒng)設計的最大區(qū)別在于結(jié)構(gòu)設計時,要充分考慮到將要采用的MEMS制造工藝為半導體工藝。

利用MEMS來構(gòu)建顯示系統(tǒng),一個極其重要的指標是像素單元能夠控制在多大的尺寸范圍,同時還要求像素單元要有較高的充填率。對像素單元尺寸大小以及填充率影響最大的因素是所選擇的微結(jié)構(gòu)致動方式。

閃耀光柵數(shù)字微鏡采用靜電力作為驅(qū)動力。為確保閃耀光柵數(shù)字微鏡動作的準確性、可靠性和閃耀光柵結(jié)構(gòu)的剛度,閃耀光柵微鏡部件采用 Coventor 公司的CoventorWare軟件進行結(jié)構(gòu)分析、靜電力驅(qū)動仿真。通過仿真,可以對部件結(jié)構(gòu)進行優(yōu)化改進設計。優(yōu)化設計完成之后,可利用CoventorWare軟件的工藝仿真模塊進行MEMS制造的工藝仿真。從而大幅度地提高開發(fā)速度,降低開發(fā)風險。圖7為改進設計后的閃耀光柵數(shù)字微鏡部件。

隨著MEMS技術(shù)的不斷發(fā)展,納米級的壓印技術(shù)已經(jīng)出現(xiàn),閃耀光柵的制造也變得不再困難。滾壓、模壓、灰梯度照相制版蝕刻、涂鍍、磁性平板印刷等工藝技術(shù)均可以實現(xiàn)低成本制造。而閃耀光柵數(shù)字微鏡的結(jié)構(gòu)本身,則是基于MEMS的表面制造工藝設計,采取多次掩膜、沉積、蝕刻的工藝完成制造。

閃耀光柵數(shù)字微鏡的驅(qū)動可采用與傳統(tǒng)LCD驅(qū)動相類似的方式。與LCD不同的是驅(qū)動數(shù)字微鏡并不需要交變電壓,用直流驅(qū)動電壓即可。采用基于COMS技術(shù)的有源驅(qū)動可以避免直接驅(qū)動產(chǎn)生的驅(qū)動不足的現(xiàn)象,保證驅(qū)動的可靠性。將常規(guī)LCD的驅(qū)動部件做適當修改,基于LCD的各種驅(qū)動技術(shù)就可以用于閃耀光柵數(shù)字微鏡的驅(qū)動。典型的驅(qū)動模塊可由圖8所包含的驅(qū)動單元構(gòu)成。

在傳統(tǒng)的三基色濾片彩色模式中,由于濾色片的顏色不能變換,因此,當需要顯示某一基色時,其余兩基色均處于暗態(tài),這就降低了顯示系統(tǒng)的亮度和分辨率。在閃耀光柵數(shù)字微鏡中,由于每一個子像素均能產(chǎn)生三基色和黑色,三個子像素可以同時顯示一個基色,因此可以有效地提高顯示器的亮度和對比度。不僅如此,如果設計新的配色算法還可以提高分辨率。對于不增加器件就能有效提高亮度和分辨率而言,設計新的配色算法是有意義的。

閃耀光柵數(shù)字微鏡的驅(qū)動與DMD的驅(qū)動相比,由于不需要極高速度的驅(qū)動器件,可供選擇的器件會增加很多,成本也會大幅度降低,這對于加速該技術(shù)的開發(fā)速度無疑會帶來極大的好處。

應用前景

閃耀光柵數(shù)字微鏡顯示技術(shù)可以利用太陽光和漫射光作為照明光源,從而有效地延長便攜應用的電池供電時間。不僅可以形成便于個人觀看的、近眼顯示的高質(zhì)量畫面,還可以產(chǎn)生供多人觀賞的大幅投影畫面。與DMD、GLV技術(shù)相比,不僅可以用復合白色光線直接生成彩色畫面,省去了色輪、掃描鏡等部件,而且大大降低驅(qū)動元件的速度要求指標,從而有效地降低制造成本。和傳統(tǒng)的LCD顯示技術(shù)相比,不僅免去造成光源極大損失的偏振片、濾色片,而且還免去了灌注、堵孔、貼膜等裝配封裝工藝,在提高亮度、對比度、分辨率的同時降低了制造成本。

閃耀光柵數(shù)字微鏡顯示技術(shù)是一項既適合于便攜用途,又適合于投影顯示的新技術(shù),在未來的生活中,將有著極其廣泛的應用前景。

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