賓夕法尼亞、MALVERN — 2012 年 11 月1 日 — 日前， Intertechnology, Inc.( 股市代號：VSH)宣布，推出通過QPL MIL-PRF-55342測試的新款表面貼裝---E/H (Ta2N) QPL，保證可靠性達到的“M”級失效率。新的E/H (Ta2N) QPL電阻使用耐潮的氮化鉭電阻膜技術制造，為國防和應用提供了增強的性能規(guī)格，包括0.1%的容差和25ppm/℃的TCR。

E/H (Ta2N) QPL電阻適用于國防和應用的控制系統(tǒng)，這些應用需要考慮在潮濕條件下工作或長期的儲存問題。器件的氮化鉭電阻膜可確保耐潮水平超過MIL-PRF-55342限值的50倍。

E/H (Ta2N) Mil-PRF-55342薄膜電阻具有不到-25dB的極低噪聲和0.5ppm/V的電壓系數。電阻的卷繞式端接采用了一個粘性很強的粘合層，上面覆蓋的電鍍鎳柵層可適應+150℃的工作條件，對典型電阻的影響小于0.010?。

新電阻采用01至12的外形尺寸，功率等級為50mW～1000mW，工作電壓為40V～，根據不同的容差，阻值范圍為49.9?～3.3M?。

E/H (Ta2N) Mil-PRF-55342薄膜現(xiàn)已量產，供貨周期為八周到十周。