壓印微影公司Molecular Imprints Inc.宣布，該公司采用J-FIL壓印微影技術的Imprio450設備獲業(yè)界半導體廠商采用，將協(xié)助用于開發(fā)其450mm 晶圓生產。該公司聲稱，這款設備能夠協(xié)助加速半導體公司向450mm晶圓生產過渡，縮短至少兩年的轉型期。
Molecular Imprints公司表示，其Imprio450 設備在2012年底時獲業(yè)界半導體公司采用。根據(jù)該公司表示，這項設備用于一項多年晶圓服務開發(fā)合約的一部份。
日前在一場由SEMI舉辦的產業(yè)策略研討會上，英特爾公司副總裁Robert Bruck展示了該首款全圖形化450mm晶圓。.
Molecular Imprints 公司專有的J-FIL 壓印微影(Jet and Flash Imprint Lithography)技術已能實現(xiàn)小于2nm-3 sigma線邊緣粗糙度和1.2nm 3 sigma臨界尺寸均勻性的24nm圖案結構。它并為10nm圖形提供了單步驟制程的發(fā)展前景。
Molecular Imprints公司CEO Mark Melliar-Smith表示：「在一個光學微影開發(fā)計劃往往長達數(shù)年以及花費動輒數(shù)十億美元的時代，我們有能力在收到客戶采購訂單的短一年內實現(xiàn)設計、建造并提供一款先進的奈米壓印平臺。」
他補充說，該Imprio450的功能完全符合半導體記憶體制造方面的需求，不過該公司在將J-FL技術導入先進CMOS元件量產方面也取得了更多的進展。