德克薩斯州奧斯丁2012年9月24日電 /美通社/ -- 奈米圖案成形( http://www.molecularimprints.com )系統(tǒng)與解決方案的市場與技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)商Molecular Imprints, Inc. (MII) 今天宣布，該公司已經(jīng)獲得一份包含多個壓印( http://www.molecularimprints.com )范本的采購訂單。這些范本將被整合進某半導(dǎo)體設(shè)備公司的光刻機中，包括 MII 專有的最新 Jet and Flash(TM) 壓印光刻( http://www.molecularimprints.com ) (J-FIL(TM)) 技術(shù)，這項技術(shù)具備先進半導(dǎo)體儲存設(shè)備大批量生產(chǎn)所需的性能。

（圖示：http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO）

Molecular Imprints 總裁兼首席執(zhí)行官 Mark Melliar-Smith 表示：「這份多范本訂單是我們的客戶為 J-FIL在生產(chǎn)前最后準備階段的使用所投上的信任的一票。我們的設(shè)備和商用面具合作夥伴與內(nèi)部團隊已經(jīng)對開發(fā)活動進行了成功協(xié)調(diào)，并在去年取得了巨大的進步，特別是在減少不合格和降低整體擁有成本( http://www.molecularimprints.com ) (CoO) 方面有了很大的改善。我們期待著J-FIL 技術(shù)下一步的商業(yè)化進程，希望能為這個半導(dǎo)體儲存器接下來幾年的發(fā)展提供支援。」

該公司的 J-FIL(TM) 技術(shù)已經(jīng)展示了24奈米圖案結(jié)構(gòu)，其刻線邊緣粗糙度小于2奈米（3西格瑪），臨界尺寸均勻性為1.2奈米（3西格瑪），可擴展至10奈米，使用的是簡單的單一圖案工藝。J-FIL 避免了功率受限的遠紫外線( http://www.molecularimprints.com ) (EUV) 光源、復(fù)雜的光學(xué)透鏡和鏡面以及利用超靈敏光致抗蝕劑讓圖案成形的難度，這些固有的擁有成本優(yōu)勢使其非常適合用于半導(dǎo)體儲存器的制造。

Molecular Imprints, Inc. 簡介

Molecular Imprints, Inc. (MII) 是高解析度與低擁有成本奈米圖案成形系統(tǒng)和解決方案的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)商。MII 將利用其創(chuàng)新的 Jet and Flash(TM) 壓印光刻 (J-FIL(TM)) 技術(shù)成為半導(dǎo)體儲存設(shè)備大批量圖案成形解決方案的全球市場和技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)商，并為新興市場顯示器、清潔能源、生物技術(shù)等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供支援。MII 透過提供價格適中、可相容且可擴展至小于10奈米規(guī)格的全方位奈米圖案成形解決方案來支援奈米刻度圖案的形成。諮詢詳情或關(guān)注該公司的推特，請閱覽：www.molecularimprints.com。