晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國(guó)舉行的ARM技術(shù)論壇(TechCon)上表示，在接下來(lái)十年以FinFET技術(shù)持續(xù)進(jìn)行半導(dǎo)體制程微縮的途徑是清晰可見(jiàn)的，可直達(dá) 7奈米節(jié)點(diǎn)；但在 7奈米節(jié)點(diǎn)以下，半導(dǎo)體制程微縮的最大挑戰(zhàn)來(lái)自于經(jīng)濟(jì)，并非技術(shù)。
蔣尚義表示，他有信心半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將在接下來(lái)十年找到克服7奈米以下節(jié)點(diǎn)技術(shù)障礙的解決方案；但也指出，新技術(shù)雖然能實(shí)現(xiàn)7奈米以下節(jié)點(diǎn)制程晶片量產(chǎn)，卻可能得付出高昂代價(jià)：「當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)，我們也看到晶圓制造價(jià)格比前一代制程增加了許多?！?br>
在ARM技術(shù)論壇的另一場(chǎng)專題演說(shuō)中，EDA供應(yīng)商Cadence Design Systems旗下Silicon Realization部門(mén)的資深研發(fā)副總裁徐季平(Chi-Ping Hsu)，簡(jiǎn)報(bào)了半導(dǎo)體制程從32/28奈米節(jié)點(diǎn)過(guò)渡到22/20奈米節(jié)點(diǎn)的制程技術(shù)研發(fā)成本增加幅度；他舉例指出，如果32/28奈米節(jié)點(diǎn)縮需成本是12億美元，來(lái)到22/20奈米節(jié)點(diǎn)，該成本規(guī)模將增加至21至30億美元。

至于晶片設(shè)計(jì)成本，則會(huì)從32奈米節(jié)點(diǎn)所需的5,000萬(wàn)至9,000萬(wàn)美元，在22奈米節(jié)點(diǎn)增加至1.2億至5億美元。徐季平并指出，在32奈米節(jié)點(diǎn)，晶片銷售量需要達(dá)到3,000至4,000萬(wàn)顆，才能打平成本；但到了20奈米節(jié)點(diǎn)，該門(mén)檻會(huì)提高至6,000萬(wàn)至1億顆。

FinFET是一種 3D電晶體技術(shù)，目前正初步獲得晶片制造商的采用；大廠英特爾(Intel)則是將其3D電晶體技術(shù)稱為「三閘(tri-gate)」，業(yè)界預(yù)計(jì)該公司將在今年底推出采用3D電晶體技術(shù)所生產(chǎn)的22奈米晶片樣品。

蔣尚義表示，22奈米節(jié)點(diǎn)會(huì)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)采用平面電晶體技術(shù)(planar transistor)的最后一個(gè)世代：「在此之后，該技術(shù)就會(huì)功成身退?！?br>
編譯：Judith Cheng

(參考原文： TSMC's R&D chief sees 10 years of scaling，by DylanMcGrath)