上海華力微電子55納米工藝產(chǎn)品開(kāi)始試流片
時(shí)間:2011-05-06 19:07:00
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微電子
檢測(cè)設(shè)備
調(diào)試
芯片生產(chǎn)線(xiàn)
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[導(dǎo)讀]本報(bào)訊 4月29日,作為“909工程”升級(jí)改造的重要項(xiàng)目,上海華力微電子12英寸全自動(dòng)芯片生產(chǎn)線(xiàn)55納米工藝產(chǎn)品開(kāi)始試流片,標(biāo)志著這一由國(guó)家電子信息產(chǎn)業(yè)調(diào)整和振興規(guī)劃所確定的重大工程、上海高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)化重大項(xiàng)目的
本報(bào)訊 4月29日,作為“909工程”升級(jí)改造的重要項(xiàng)目,上海華力微電子12英寸全自動(dòng)芯片生產(chǎn)線(xiàn)55納米工藝產(chǎn)品開(kāi)始試流片,標(biāo)志著這一由國(guó)家電子信息產(chǎn)業(yè)調(diào)整和振興規(guī)劃所確定的重大工程、上海高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)化重大項(xiàng)目的建設(shè)進(jìn)入了又一個(gè)新階段。國(guó)家發(fā)改委、工業(yè)和信息化部等相關(guān)部門(mén)領(lǐng)導(dǎo),上海市有關(guān)方面的負(fù)責(zé)人出席了項(xiàng)目的啟動(dòng)儀式。
上海華力微電子的12英寸芯片生產(chǎn)線(xiàn)項(xiàng)目于2010年1月19日啟動(dòng),2010年6月18日取得施工許可證。僅用了5個(gè)月的時(shí)間便完成了凈化廠房的改造和動(dòng)力系統(tǒng)主體工程的建設(shè),于2010年11月20日實(shí)現(xiàn)了首臺(tái)核心工藝設(shè)備光刻機(jī)的入位。之后,項(xiàng)目采用了動(dòng)力設(shè)施施工與設(shè)備安裝調(diào)試平行進(jìn)行的作業(yè)模式,在短時(shí)間內(nèi)完成了首期月產(chǎn)能1萬(wàn)片的設(shè)備安裝調(diào)試。
目前,上海華力微電子已經(jīng)準(zhǔn)備就緒的月產(chǎn)能1萬(wàn)片的設(shè)備,充分考慮到了技術(shù)的延展性,能夠較好地滿(mǎn)足包括浸沒(méi)式光刻技術(shù)、應(yīng)變硅技術(shù)、金屬硬掩模后道互連技術(shù)等先進(jìn)工藝的要求。在這些設(shè)備中,還采購(gòu)了由上海中微半導(dǎo)體設(shè)備公司生產(chǎn)的國(guó)產(chǎn)刻蝕設(shè)備;在檢測(cè)設(shè)備方面,配備了業(yè)界先進(jìn)的亮場(chǎng)缺陷檢測(cè)和電子掃描顯微鏡檢測(cè)設(shè)備。
基于前期建設(shè)和研發(fā)的成果以及市場(chǎng)需求,上海華力微電子決定,首批流片就從55納米的邏輯產(chǎn)品起步。下個(gè)階段,將抓緊進(jìn)行自身設(shè)備的工藝驗(yàn)證、客戶(hù)的產(chǎn)品驗(yàn)證、最終產(chǎn)品的整機(jī)驗(yàn)證。在下半年完成下一個(gè)1萬(wàn)片月產(chǎn)能設(shè)備的選型和訂購(gòu),第四季度開(kāi)始進(jìn)入45納米的工藝研發(fā)。隨后,將在項(xiàng)目3.5萬(wàn)片月產(chǎn)能達(dá)產(chǎn)驗(yàn)收后,向更高的工藝等級(jí)邁進(jìn)。 (羅仁宵)
上海華力微電子的12英寸芯片生產(chǎn)線(xiàn)項(xiàng)目于2010年1月19日啟動(dòng),2010年6月18日取得施工許可證。僅用了5個(gè)月的時(shí)間便完成了凈化廠房的改造和動(dòng)力系統(tǒng)主體工程的建設(shè),于2010年11月20日實(shí)現(xiàn)了首臺(tái)核心工藝設(shè)備光刻機(jī)的入位。之后,項(xiàng)目采用了動(dòng)力設(shè)施施工與設(shè)備安裝調(diào)試平行進(jìn)行的作業(yè)模式,在短時(shí)間內(nèi)完成了首期月產(chǎn)能1萬(wàn)片的設(shè)備安裝調(diào)試。
目前,上海華力微電子已經(jīng)準(zhǔn)備就緒的月產(chǎn)能1萬(wàn)片的設(shè)備,充分考慮到了技術(shù)的延展性,能夠較好地滿(mǎn)足包括浸沒(méi)式光刻技術(shù)、應(yīng)變硅技術(shù)、金屬硬掩模后道互連技術(shù)等先進(jìn)工藝的要求。在這些設(shè)備中,還采購(gòu)了由上海中微半導(dǎo)體設(shè)備公司生產(chǎn)的國(guó)產(chǎn)刻蝕設(shè)備;在檢測(cè)設(shè)備方面,配備了業(yè)界先進(jìn)的亮場(chǎng)缺陷檢測(cè)和電子掃描顯微鏡檢測(cè)設(shè)備。
基于前期建設(shè)和研發(fā)的成果以及市場(chǎng)需求,上海華力微電子決定,首批流片就從55納米的邏輯產(chǎn)品起步。下個(gè)階段,將抓緊進(jìn)行自身設(shè)備的工藝驗(yàn)證、客戶(hù)的產(chǎn)品驗(yàn)證、最終產(chǎn)品的整機(jī)驗(yàn)證。在下半年完成下一個(gè)1萬(wàn)片月產(chǎn)能設(shè)備的選型和訂購(gòu),第四季度開(kāi)始進(jìn)入45納米的工藝研發(fā)。隨后,將在項(xiàng)目3.5萬(wàn)片月產(chǎn)能達(dá)產(chǎn)驗(yàn)收后,向更高的工藝等級(jí)邁進(jìn)。 (羅仁宵)





