[導讀]鄭茜文/臺北 為擴充40奈米與28奈米先進制程產能,聯電宣布2011年資本支出將達約18億美元,與2010年相當,聯電預估,2011年12吋產能將增加25%,65奈米制程全年營收比重將提升至40%左右,40奈米制程下半年將提升到10%
鄭茜文/臺北 為擴充40奈米與28奈米先進制程產能,聯電宣布2011年資本支出將達約18億美元,與2010年相當,聯電預估,2011年12吋產能將增加25%,65奈米制程全年營收比重將提升至40%左右,40奈米制程下半年將提升到10%,顯現聯電在先進制程進展快速。
從制程比重來看,聯電2010年第4季65奈米以下制程比重已由上季的30%,提升到35%,其中45/40奈米制程提升1個百分點達5%;從全年度來看,65奈米以下制程營收比重由2009年的13%,提升到27%,營收貢獻成長達170%。
孫世偉近一步指出,65奈米制程成長非??焖?,2011年預計也將維持成長走勢,由35%繼續(xù)往40%靠近,40奈米制程目前已有15個客戶,40個設計定案(tape-out),有20個已經量產,預計下半年營收比重將達10%。此外,28奈米制程將于年中進行試產,于2012年正式量產。
從客戶別來看,聯電2010年第4季來自整合元件廠(IDM)客戶的營收比重由上季的22%,提升到27%,孫世偉指出,在IDM委外釋單趨勢持續(xù)之下,2011全年IDM占營收比重將逾27%。
聯電規(guī)劃2011年資本支出與2010年相當,約18億美元,主要用來擴充40奈米產能,并持續(xù)投入28奈米、20奈米制程的研發(fā),也因應2012年28奈米邁入量產的產! 能需求。在18億美元中,其中13%用以擴充8吋產能,87%擴充12吋產能。聯電預估,2011年總產能將增加11%,其中12吋產能將增加25%。
對于市場憂慮,聯電資本支出18億美元,較2010年并無太大成長,相較明顯低于其他競爭對手,恐影響聯電長期競爭力,聯電財務長劉啟東指出,聯電積極在調整財務體質,希望以公司自身營收獲利入帳的現金,作為資本支出,因此18億美元在公司可負擔的范圍內,也能因應產能需求。
隨著近年擴大資本支出,劉啟東指出,2010年第4季將是近年折舊費用的低點,2011年折舊費用將逐季攀高,不過全年折舊費用將較2010年增加1成以內。
至于在大陸轉投資的和艦方面,劉啟東指出,目前仍積積極與和艦股東尋求合并的機會,希望將和艦完全納入聯電之下,作為聯電在大陸的根據地,除此之外,聯電近期在大陸也增加許多業(yè)務人員,希望進一步擴大大陸市? 往潔C
在新事業(yè)方面,劉啟東指出,目前太陽能與LED皆是以山東為根據地,借此可讓上下游供應鏈互相支援,其中,聯電與晶電合資成立的冠銓光電,以及在臺灣的聯相、聯景是目前聯電最大宗的轉投資,將是未來新事業(yè)對聯電營收獲利的主要來源,希望于未來2年內能看到貢獻。
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