[導讀]法國研究機構CEA-Leti于2011年1月19日（當?shù)貢r間）宣布，將在本月內啟動專門用于三維積層技術研發(fā)和試制的300mm生產線。該機構表示，構建專門用于三維積層技術的研發(fā)生產線“在歐洲尚屬首次”。
據悉，此次生產線
法國研究機構CEA-Leti于2011年1月19日（當?shù)貢r間）宣布，將在本月內啟動專門用于三維積層技術研發(fā)和試制的300mm生產線。該機構表示，構建專門用于三維積層技術的研發(fā)生產線“在歐洲尚屬首次”。
據悉，此次生產線通過在現(xiàn)有CMOS專用300mm研發(fā)生產線中追加各種三維積層用裝置來實現(xiàn)。追加裝置包括專用的光刻裝置、深銑削蝕刻裝置、絕緣膜及金屬成膜裝置、濕式蝕刻裝置以及封裝裝置等。有望開發(fā)出通過TSV（硅貫通孔）來三維連接不同種類芯片的技術等。通過構建此次生產線，CEA-Leti將可在200mm晶圓和300mm晶圓兩方面開展三維積層技術的研發(fā)。（記者：木村 雅秀）
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