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[導(dǎo)讀]日本Lasertec發(fā)布了光學(xué)式檢測裝置“WASAVI系列LP300”。該裝置實現(xiàn)了可支持4Xnm的分辨率,能夠全面檢測晶圓,可檢測光刻膠涂布后和顯影后光刻膠膜上出現(xiàn)的異物、CD(線寬)錯誤、膜厚不均勻等缺陷并自動分類。預(yù)定在

日本Lasertec發(fā)布了光學(xué)式檢測裝置“WASAVI系列LP300”。該裝置實現(xiàn)了可支持4Xnm的分辨率,能夠全面檢測晶圓,可檢測光刻膠涂布后和顯影后光刻膠膜上出現(xiàn)的異物、CD(線寬)錯誤、膜厚不均勻等缺陷并自動分類。預(yù)定在2010年12月舉辦的“SEMICON Japan 2010”上展示。

以往的圖形缺陷檢測一般采用以下方法:宏觀缺陷利用光學(xué)式檢測裝置檢測晶圓整體,在此基礎(chǔ)上利用測長SEM(CD-SEM)和膜厚計等,采樣(晶圓面中的5點和10點等)檢測光刻膠的CD(線寬)錯誤以及膜厚不均勻等細微缺陷。光學(xué)式檢測裝置具有較高處理能力,可對晶圓進行全面檢測,但由于分辨率低,不能檢測微小的缺陷。與之相反,CD-SEM和膜厚計雖然分辨率和測量精度高,但處理能力低。然而這種方法很難檢測出晶圓上的局部缺陷,也難以支持隨微細化而來的高精度圖形尺寸管理。

此次的裝置配備了高分辨率光學(xué)器件,能夠檢測出來自光刻膠膜表面和內(nèi)部的散射光、干涉光和反射光。并且,還自主開發(fā)出了檢測算法。因此,能以支持4Xnm的分辨率測量圖形形狀和膜厚的變化,還可檢測出微小區(qū)域的CD錯誤、膜厚不均勻、圖形形狀變化以及異物等。裝置尺寸為寬1500mm、進深2870mm、高2460mm。支持的晶圓直徑為200mm和300mm。價格因性能參數(shù)而異,為2億~2億5000萬日元。(記者:長廣 恭明)




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