[導(dǎo)讀]為提高在亞洲的晶圓代工市占率,并與主要對手臺積電一較長短,全球晶圓(Global Foundries;GF)的亞洲巡回論壇,今日于新竹盛大舉辦。會中全球晶圓營運(yùn)長謝松輝表示,GF正快步邁進(jìn)28/20奈米階段,目前在美國紐約投
為提高在亞洲的晶圓代工市占率,并與主要對手臺積電一較長短,全球晶圓(Global Foundries;GF)的亞洲巡回論壇,今日于新竹盛大舉辦。會中全球晶圓營運(yùn)長謝松輝表示,GF正快步邁進(jìn)28/20奈米階段,目前在美國紐約投資興建的Fab 8晶圓廠,便以28/20奈米制程為主,預(yù)計(jì)在2012年將可進(jìn)入量產(chǎn)階段,屆時(shí)每月產(chǎn)能可達(dá)到6萬片。
謝松輝并透露,意法半導(dǎo)體(STM)已經(jīng)確定在28奈米制程的芯片產(chǎn)品上與全球晶圓合作,預(yù)計(jì)今年底,在High-k金屬閘極技術(shù)有所進(jìn)展之下,28奈米制程應(yīng)用將會有更進(jìn)一步的突破。除了意法之外,IBM和Samsung參與其中的Common Platform聯(lián)盟,也會與全球晶圓在28奈米制程密切合作。全球晶圓亞太區(qū)與日本銷售副總裁鄭伯銘更進(jìn)一步表示,全球晶圓與IBM也已完成簽約,將合作代工22奈米微處理器產(chǎn)品。
除此之外,ARM的雙核Cortex-A9處理器也采用全球晶圓的28奈米 HP和High-k金屬閘極技術(shù),主要制程是在德國的Fab1晶圓廠。在與ARM的合作計(jì)劃上,謝松輝指出主要的兩大方向,其一是擴(kuò)大測試芯片IP的組合方案,開發(fā)各項(xiàng)可能性的技術(shù)合作,其二則是ARM處理架構(gòu)的合作,以列出函式庫和內(nèi)存處理為核心。
同時(shí)由于新制程有所突破,AMD的CPU/GPU Combo芯片也會和GF晶圓代工密切合作。在設(shè)計(jì)服務(wù)部份,全球晶圓主要持股掌握虹晶科技(Socle Technology)之后,也進(jìn)一步取得在消費(fèi)電子多媒體芯片和模擬芯片設(shè)計(jì)的關(guān)鍵智財(cái)權(quán)。
謝松輝指出,預(yù)計(jì)到2012年,全球晶圓的資本支出水位應(yīng)該還是會維持在25~27億美元左右,設(shè)備投資部份將占較大比重。不過資本支出維持高水位,并不代表產(chǎn)能就會立即明顯成長,今年第4季到明年第1季的產(chǎn)能,應(yīng)該還是會經(jīng)歷季節(jié)性調(diào)整的起伏。至于在美元相對居貶、亞洲貨幣不斷升值的情況下,全球晶圓的外匯避險(xiǎn)機(jī)制、以及分散于新加坡、德國Dresden和美國紐約的晶圓廠布局,可讓匯率變動所造成的風(fēng)險(xiǎn)降到最低。
對于今年全球半導(dǎo)體制程的景氣預(yù)估,謝松輝是相對審慎樂觀的,包括無線基頻芯片以及機(jī)頂盒和數(shù)字電視等消費(fèi)電子的高速成長,有效地抵銷了在PC和顯示領(lǐng)域芯片動能不足的負(fù)面影響,應(yīng)該可以維持在4~5%甚至期待5%以上的成長率。
在 28/20奈米先進(jìn)制程技術(shù)部份,GF則是看好波長13.4nm的次世代超短紫外光(Extreme Ultraviolet;EUV)晶圓光罩制程和High-k金屬閘極技術(shù)。全球晶圓企業(yè)計(jì)劃管理部門副總裁Nick Kepler指出,浸潤式微影技術(shù)(immersion lithography)雖然也可應(yīng)用在20奈米制程,但是會遇到更為復(fù)雜的技術(shù)挑戰(zhàn)和成本問題,例如雙重曝光成像(double patterning)提高顯影分辨率時(shí),EUV就較能符合需求。
重要的是,EUV光罩制程成熟化后,成本可大幅降低,并且可以有效量產(chǎn),Nick Kepler進(jìn)一步認(rèn)為,進(jìn)入到20奈米制程以下,EUV甚至有可能是唯一可符合微影制程需求的光罩技術(shù)選項(xiàng)。至于High-k金屬閘極技術(shù),則可以隨著微型化的制程節(jié)點(diǎn),擴(kuò)大閘極長度,不僅能降低等效氧化層(Equivalent Oxide Thickness;EOT)厚度,并且繼續(xù)提升效能。
值得注意的是,全球晶圓這次也公開宣示進(jìn)一步擴(kuò)展微機(jī)電MEMS制程的決心,包括加速度計(jì)、陀螺儀、射頻MEMS等產(chǎn)品,都是全球晶圓切入的重點(diǎn),GF也將積極強(qiáng)攻車用MEMS領(lǐng)域。鄭伯銘指出,以往全球晶圓在MEMS制程,主要是接受IDM廠委外代工為主,現(xiàn)在將朝向輕晶圓廠(Fab-lite)的合作模式發(fā)展,越來越多的無晶圓廠MEMS廠商,也將出現(xiàn)在全球MEMS市場,而8吋MEMS晶圓將成為主流。今年底前,全球晶圓將完成MEMS制程的基礎(chǔ)建設(shè),預(yù)計(jì)在明年中之后開始量產(chǎn)。
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