[導(dǎo)讀]完全集成的開放存取AMS流將于2010年第4季度向客戶發(fā)布
加州密爾必達(dá)--(美國商業(yè)資訊)--在今天的全球技術(shù)大會(huì)暨成立大會(huì)上,GLOBALFOUNDRIES展示了業(yè)界首個(gè)開放存取28納米模擬/混合信號(hào)(AMS)生產(chǎn)設(shè)計(jì)流開發(fā)套件。該
完全集成的開放存取AMS流將于2010年第4季度向客戶發(fā)布
加州密爾必達(dá)--(美國商業(yè)資訊)--在今天的全球技術(shù)大會(huì)暨成立大會(huì)上,GLOBALFOUNDRIES展示了業(yè)界首個(gè)開放存取28納米模擬/混合信號(hào)(AMS)生產(chǎn)設(shè)計(jì)流開發(fā)套件。該公司將此AMS流作為平臺(tái)向客戶提供,以構(gòu)建經(jīng)過驗(yàn)證的鑄造工藝,并打造成功的設(shè)計(jì)。 GLOBALFOUNDRIES已與Cadence Design Systems達(dá)成合作,將共同推出此AMS生產(chǎn)設(shè)計(jì)流。
GLOBALFOUNDRIES的設(shè)計(jì)方法總監(jiān)Richard Trihy說:"要在先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)上激發(fā)創(chuàng)新,協(xié)作和開放無疑是最為重要的。我們與我們的生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴緊密合作,以提供最佳的設(shè)計(jì)解決方案??蛻艨梢栽谖覀兣cCadence合作開發(fā)的28納米生產(chǎn)設(shè)計(jì)流先進(jìn)平臺(tái)上進(jìn)行構(gòu)建,從而使自己的設(shè)計(jì)和產(chǎn)品與眾不同。"
該AMS流的設(shè)計(jì)特點(diǎn)在于突出GLOBALFOUNDRIES的28 納米先柵極高 K 金屬柵 (HKMG) 技術(shù)的先進(jìn)功能。AMS流中包括以硅片為導(dǎo)向的指示和提高工藝性的建議??蛻魧⒖稍L問IP、庫、參考套件和鑄造附屬品,這可讓客戶對(duì)其設(shè)計(jì)和流進(jìn)行再創(chuàng)作,從而滿足其個(gè)人的設(shè)計(jì)要求。GLOBALFOUNDRIES還將成為業(yè)界首家支持配備DRC+流的公司,GLOBALFOUNDRIES的這一通過硅片驗(yàn)證的解決方案已超越標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查(DRC),它使用基于形狀的兩維模式匹配將速度提高 100 倍,不但能識(shí)別復(fù)雜的制造問題,還能保證精確性。
GLOBALFOUNDRIES已與Cadence達(dá)成合作,在2010的第三季度共同推出AMS生產(chǎn)設(shè)計(jì)流的主要元素,并由GLOBALFOUNDRIES PDK支持所有流步驟。參考流中包括PCell,它可啟用Cadence Virtuoso自定義設(shè)計(jì)工具中的重要先進(jìn)功能。完整的生產(chǎn)級(jí)AMS流預(yù)計(jì)在2010年第四季度向客戶發(fā)布,硅片驗(yàn)證則計(jì)劃在2011年初。
Cadence的產(chǎn)品管理組主管David DesharnaIS說:" 對(duì)于那些研究先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的公司,積極的開發(fā)項(xiàng)目對(duì)其有著非常明顯且積極的生產(chǎn)率影響,因此Cadence始終是其生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴的選擇對(duì)象。我們與 GLOBALFOUNDRIES合作開發(fā)此28納米完全集成的開放存取AMS生產(chǎn)流,向業(yè)界提供通往硅片實(shí)現(xiàn)的確切路徑,硅片實(shí)現(xiàn)是EDA360視野的主要基本元件之一。"
該 AMS流包含模擬電路設(shè)計(jì)與混合信號(hào)設(shè)計(jì),利用GLOBALFOUNDRIES PDK和合作伙伴標(biāo)準(zhǔn)單元庫演示混合模擬與數(shù)字設(shè)計(jì)。參考流中所含設(shè)計(jì)的各個(gè)方面包括管理附屬問題、快速電路布局樣機(jī)研究、模擬布局方針和路由、模擬(如角選擇、蒙特卡羅)、電感器合成、金屬填充和EM/IR分析。
該設(shè)計(jì)流還通過白皮書、共同攜手應(yīng)對(duì)挑戰(zhàn)和GLOBALFOUNDRIES建議的解決方案進(jìn)行了增強(qiáng)。此外,該設(shè)計(jì)流還在生產(chǎn)過程采用頂級(jí)物理簽證步驟,將 GLOBALFOUNDRIES 28納米要求應(yīng)用于DRC、光刻模擬和CMP。
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