聯(lián)電第二季度恢復(fù)盈利 凈利潤(rùn)4700萬(wàn)美元
聯(lián)電日前公布2009年第二季財(cái)務(wù)報(bào)告，營(yíng)業(yè)收入為新臺(tái)幣226.3億元，與上季的新臺(tái)幣108.4億元相比大幅成長(zhǎng)108.8%，較去年同期的新臺(tái)幣252.4億元衰退約10.3%。本季毛利率為23.8%，營(yíng)業(yè)凈利率為11.9%，2009年第二季凈利新臺(tái)幣15.5億元（約4700萬(wàn)美元），每股普通股獲利為新臺(tái)幣0.12元。
聯(lián)電執(zhí)行長(zhǎng)孫世偉博士表示，“2009年第二季客戶(hù)需求強(qiáng)勁，接單狀況良好，出貨量大幅成長(zhǎng)至約當(dāng)八吋晶圓89萬(wàn)8千片，產(chǎn)能利用率上升至79%，六月?tīng)I(yíng)收已超越去年同期數(shù)字，回到金融風(fēng)暴前的營(yíng)運(yùn)水平。本公司相當(dāng)樂(lè)觀看待第三季，營(yíng)收可望持續(xù)成長(zhǎng)。本公司也將密切注意未來(lái)幾季景氣的發(fā)展并審慎因應(yīng)。”
孫執(zhí)行長(zhǎng)繼續(xù)表示，“本公司在 Customer-Driven Foundry Solutions 經(jīng)營(yíng)理念下，提供客戶(hù)最適切之晶圓專(zhuān)工解決方案。65/55 納米新產(chǎn)品數(shù)量如預(yù)期成長(zhǎng)，第二季來(lái)自65/55納米的營(yíng)收也顯著增加，較上季成長(zhǎng)約120%，將可提升未來(lái)高階制程營(yíng)業(yè)額和市占率。本公司獨(dú)立研發(fā)的40納米高效能(High Performance)邏輯制程包括SiGe、Laser Anneal、Ultra Low-K等先進(jìn)技術(shù)，已有許多客戶(hù)產(chǎn)品進(jìn)入量產(chǎn)，而45/40納米低功率(Low Power)技術(shù)的良率最佳化也順利進(jìn)展中。在先進(jìn)28納米 HK/MG 制程的發(fā)展，本公司采取 Gate-Last 為主之技術(shù)，以同時(shí)滿(mǎn)足未來(lái)客戶(hù)高效能及低功率高階技術(shù)之需求。為追求持續(xù)成長(zhǎng)，本公司將調(diào)升今年資本支出至5億美金，投資于包括65/55納米，45/40納米，及28納米等高階制程產(chǎn)能布建和先進(jìn)技術(shù)的研發(fā)設(shè)備?！?/p>
“過(guò)去一年雖然歷經(jīng)艱困的全球金融危機(jī)和經(jīng)濟(jì)衰退，聯(lián)電仍能穩(wěn)健地渡過(guò)此次全球景氣調(diào)整期。”，孫執(zhí)行長(zhǎng)強(qiáng)調(diào)，“公司經(jīng)營(yíng)團(tuán)隊(duì)與全體同仁同心協(xié)力，平順完成組織重整與人力精實(shí)，透過(guò)團(tuán)隊(duì)合作與優(yōu)異的執(zhí)行力，營(yíng)運(yùn)效率與成本結(jié)構(gòu)均獲得大幅改善。今后本公司將在提升產(chǎn)能利用率與營(yíng)收的基礎(chǔ)上努力控管成本，并經(jīng)由適時(shí)的資本支出，積極投資在先進(jìn)技術(shù)開(kāi)發(fā)與支持客戶(hù)產(chǎn)能需求，以追求長(zhǎng)期穩(wěn)健之成長(zhǎng)，同時(shí)提高獲利和股東權(quán)益報(bào)酬率?！?/p>
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