臺積電(TSMC)董事會日前核準資本預算美金2億500萬元,將用以擴充該公司
晶圓十二廠之45奈米制程產能。臺積電預計於今年九月即可完成45奈米制程驗證并開始為客戶進行量產,該制程結合了193奈米浸潤式曝光顯影制程、應變矽晶以及超低介電系數元件連接材料等優(yōu)勢。
臺積電計劃先推出45奈米低耗
電量(LP)制程,之後再推出泛用型及高效能(High performance,GS)制程。此外45奈米邏輯制程也提供低耗
電量三閘級氧化層(Triple gate oxide,LPG)的制程選擇。此三種制程皆提供多種不同運作電壓以及1.8伏特、2.5伏特或3.3伏特的輸入/輸出電壓以滿足不同產品的需求。
臺積電并同時宣布推出45奈米制程設計生態(tài)環(huán)境。
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