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[導讀]近日消息,三星電子研制開發(fā)出了世界首款40納米工藝DDR2動態(tài)內(nèi)存產(chǎn)品(1納米等于十億分之一米)。繼05年率先開發(fā)出60納米內(nèi)存,06年開發(fā)出50納米內(nèi)存后,09年伊始三星電子再次通過成功開發(fā)40納米動態(tài)內(nèi)存產(chǎn)品,向外界

近日消息,三星電子研制開發(fā)出了世界首款40納米工藝DDR2動態(tài)內(nèi)存產(chǎn)品(1納米等于十億分之一米)。繼05年率先開發(fā)出60納米內(nèi)存,06年開發(fā)出50納米內(nèi)存后,09年伊始三星電子再次通過成功開發(fā)40納米動態(tài)內(nèi)存產(chǎn)品,向外界宣告了其領先的競爭力。

計劃2010年開始正式進行40納米內(nèi)存產(chǎn)品批量生產(chǎn)

據(jù)了解三星電子內(nèi)存升級產(chǎn)品量產(chǎn)的時間為:07年3月實現(xiàn)60納米內(nèi)存量產(chǎn)、08年4月實現(xiàn)50納米內(nèi)存量產(chǎn)、09年第3季度將實現(xiàn)40納米內(nèi)存產(chǎn)品的量產(chǎn)。

三星電子計劃通過本次開發(fā)的40納米1G DDR2內(nèi)存制造工藝,在09年實現(xiàn)40納米2G DDR3的開發(fā)和量產(chǎn)。從06年開發(fā)出50納米內(nèi)存產(chǎn)品到08年實現(xiàn)量產(chǎn),用了兩年的時間,而此次工藝更為精湛的40納米產(chǎn)品開發(fā)到量產(chǎn)只用了一年。

40納米2G DDR3內(nèi)存比08年9月量產(chǎn)的50納米2G DDR3生產(chǎn)效率可提高約60%。相對于其他生產(chǎn)50至60納米內(nèi)存的企業(yè),三星電子借此確保了1至2年的領先優(yōu)勢。

40納米內(nèi)存與50納米產(chǎn)品相比不僅縮小了芯片面積,提高了生產(chǎn)率,還強化了低電低壓的特點,使1.2V環(huán)境下運行成為可能。因此40納米內(nèi)存能夠比50納米1.5V內(nèi)存減耗30%以上。這樣就能夠為服務器等高耗能設備提供更加環(huán)保高效的能源解決方案。

三星電子通過搶占40納米內(nèi)存市場,一方面開拓了強調(diào)環(huán)保性能的高附加值內(nèi)存市場,同時為未來開發(fā)DDR4等高速下一代大容量高性能產(chǎn)品打下了良好的基礎。三星電子計劃將繼續(xù)保持業(yè)內(nèi)最領先的技術(shù)水平以確保領先的競爭力。

三星電子借40納米產(chǎn)品成為業(yè)內(nèi)惟一獲得英特爾雙重認證的企業(yè)(單品和模塊分別獲得認證)

值得一提的是,本次三星開發(fā)的40納米DDR2產(chǎn)品,繼08年12月通過了英特單品使用測試之后,09年1月1G DDR2 SoDIMM模塊組也通過了英特爾使用測試,是內(nèi)存供應商中唯一一個獲得雙重英特爾認證的企業(yè)。

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