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[LED EXPO&OLED EXPO 2011] Daesung & technology，展示高亮度/高容量LED 產(chǎn)品
Daesung & technology（www.dsatech.co.kr)參加了從6月21日起至24日為止，在韓國(guó)Kintex舉辦的“l(fā)ed EXPO&OLED EXPO 2011(www.ledexpo.com)”，展示旗下LED 產(chǎn)品群。 本次展示的產(chǎn)品以圓錐結(jié)構(gòu)形成的 ‘DSPL- 205′
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【EV開發(fā)技術(shù)展】Sinfonia Technology展出可有效利用等待時(shí)間的EV用快速充電器
日本Sinfonia Technology（總部：東京，2009年4月由神鋼電機(jī)更名而來）一個(gè)電源盤上可設(shè)置兩臺(tái)充電站的電動(dòng)汽車（EV）用快速充電器試制品（圖），在“電動(dòng)汽車開發(fā)技術(shù)展 EVEX2010”（2010年7月14～16日
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RIM業(yè)績(jī)股價(jià)下滑 獲總部所在地各界支持
新浪科技訊 北京時(shí)間6月20日上午消息，盡管RIM股價(jià)周五大跌，并且宣布將展開裁員，但該公司總部所在地的政府官員和商業(yè)領(lǐng)袖依然堅(jiān)定支持這家加拿大最著名的企業(yè)。 在宣布季度業(yè)績(jī)可能令市場(chǎng)失望，并下調(diào)全年業(yè)績(jī)
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思杰任命思科和Sun前高管為副總裁
新浪科技訊 北京時(shí)間5月19日晚間消息，思杰系統(tǒng)(Citrix Systems)日前宣布，任命西蒙·海耶斯(Simon Hayes)為公司戰(zhàn)略聯(lián)盟副總裁，任命喬·凱勒(Joe Keller)為公司聯(lián)盟及社區(qū)營(yíng)銷副總裁。 海耶斯曾在思科任職14年
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技術(shù)牛人對(duì)intel的22nm 3D工藝的解讀
大學(xué)計(jì)劃這個(gè)工種挺好，碰到自己不太明白的問題，直接發(fā)一個(gè)email給某個(gè)領(lǐng)域處于牛A和牛C之間的教授，就懂了。 intel的22nm 3D工藝牛，到底牛到什么程度，到底對(duì)業(yè)界有神馬影響，俺也搞不太清楚。這不，一封email全
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與MAM首次聯(lián)辦，20nm微細(xì)化和CPI應(yīng)力為焦點(diǎn)話題
半導(dǎo)體多層布線技術(shù)相關(guān)國(guó)際會(huì)議“2011年IEEE國(guó)際互聯(lián)技術(shù)會(huì)議（IITC）”于5月9～12日在德國(guó)薩克森州（Sachsen）的首府德累斯頓（Dresden）召開。此次是IITC首次在歐洲舉行，并首次與材料相關(guān)國(guó)際會(huì)議“Materials fo
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晶能光電入選全球最具創(chuàng)新力企業(yè)50強(qiáng)
近日，晶能光電入選權(quán)威的美國(guó)麻省理工學(xué)院《科技創(chuàng)業(yè)》(Technology Review)雜志評(píng)選出的“年度全球最具創(chuàng)新力企業(yè)50強(qiáng)”(可登陸http://www.technologyreview.com/tr50/查詢)。晶能光電的入選理由是：&ldq
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中國(guó)LED企業(yè)入選世界最具創(chuàng)新力公司50強(qiáng)
近日，晶能光電入選權(quán)威的美國(guó)麻省理工學(xué)院《科技創(chuàng)業(yè)》(Technology Review)雜志評(píng)選出的“年度全球最具創(chuàng)新力企業(yè)50強(qiáng)”(可登陸http://www.technologyreview.com/tr50/查詢) 。晶能光電的入選理由是：“l(fā)ed高效節(jié)能
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泰林進(jìn)軍中國(guó)半導(dǎo)體
二線封測(cè)廠泰林科技(5466)公告取得宏茂上海封測(cè)廠宏茂微電子廠，以進(jìn)軍中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)；同時(shí)，為增強(qiáng)資金的靈活度，也計(jì)畫處分在美國(guó)Nasdaq掛牌的百慕達(dá)商南茂公司部分股票。 泰林總經(jīng)理卓連發(fā)上午表示，為不影響
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美光科技將擴(kuò)建在西安的電路測(cè)試工廠
美光科技(Micron Technology Inc.) 日前宣布擴(kuò)建在西安的電路測(cè)試工廠，其中包括完成二期 40萬平方英尺的芯片測(cè)試的模組封裝工廠項(xiàng)目，以滿足其亞洲客戶不斷增長(zhǎng)的訂單需求，新的工廠將視市場(chǎng)需求情況，在未來3-5年內(nèi)
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ORTUS TECHNOLOGY開發(fā)出4.8英寸全高清液晶面板
從事中小型顯示器業(yè)務(wù)的日本ORTUS TECHNOLOGY開發(fā)出了支持“全高清”1920×1080像素的4.8英寸液晶面板。該公司宣稱其為可顯示全高清影像的“全球最小面板”。主要面向廣播電視用攝像機(jī)的監(jiān)視器等業(yè)務(wù)用途。ORTUS TEC
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華為印尼開設(shè)技術(shù)培訓(xùn)中心：投資100萬美元
北京時(shí)間4月12日下午消息（舒允文）華為印尼分公司宣布，已投資100萬美元在萬隆理工學(xué)院（Bandung Institute of Technology）開設(shè)技術(shù)培訓(xùn)中心。該培訓(xùn)中心的揭牌儀式于11日舉行。萬隆理工學(xué)院校長(zhǎng)，阿瑪洛迦（Akhm
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GlobalFoundries和imec拓展合作范圍
全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體代工廠商之一GlobalFoundries與納電子研發(fā)中心imec簽署了一項(xiàng)長(zhǎng)期的戰(zhàn)略合作協(xié)議，共同研發(fā)22nm節(jié)點(diǎn)以下CMOS技術(shù)以及GaN-on-Si技術(shù)。GLOBALFOUNDRIES enters a broad strategic partnership with im
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蘋果谷歌亞馬遜等32家科技企業(yè)遭遇專利訴訟
北京時(shí)間4月2日凌晨消息，美國(guó)一家名為H-W Technology的公司本周向一家地方法院提起訴訟，稱蘋果、RIM、谷歌及其他29家大型科技企業(yè)侵犯了它的一項(xiàng)專利權(quán)。H-W Technology于2009年4月獲得了這項(xiàng)名為“具有搜索和
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瑞薩和爾必達(dá)等日本半導(dǎo)體廠商著手恢復(fù)生產(chǎn)
東日本大震災(zāi)的受災(zāi)范圍較大，再加上核電站受災(zāi)以及隨之而來的計(jì)劃停電的影響，產(chǎn)業(yè)復(fù)興用生產(chǎn)設(shè)備的受災(zāi)情況的把握及恢復(fù)生產(chǎn)花費(fèi)了不少時(shí)間。但近日供應(yīng)電子產(chǎn)業(yè)核心部件的半導(dǎo)體廠商宣布恢復(fù)生產(chǎn)和確保產(chǎn)品供應(yīng)的
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蘋果RIM等32家科技企業(yè)遭遇專利訴訟
北京時(shí)間4月2日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，H-W Technology本周在美國(guó)起訴蘋果、RIM和另外29家主流技術(shù)公司侵犯其2009年4月獲準(zhǔn)的一項(xiàng)專利號(hào)為7525955的專利，涵蓋“具有搜索和廣告功能的IP電話”。H-W Technol
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萊迪思和HELION TECHNOLOGY推出適用于LatticeECP3 FPGA系列的壓縮和加密IP核
21ic訊 萊迪思半導(dǎo)體公司和Helion Technology日前宣布一系列適用于LatticeECP3™ FPGA系列的壓縮和加密的IP核現(xiàn)已上市。該系列具有有效載荷壓縮系統(tǒng)核，提高了有限信道帶寬的利用率，因此非常適合微波回程應(yīng)用、
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專家宣言未來個(gè)人電腦將瀕臨“死亡”
IT時(shí)報(bào) 劉超“個(gè)人電腦將瀕臨死亡，未來的個(gè)人終端設(shè)備將沒有軟件、沒有硬盤、沒有風(fēng)扇、沒有光驅(qū)、沒有上傳、也沒有下載，所有的操作都在云中進(jìn)行?！痹谌涨芭e行的中國(guó)云計(jì)算服務(wù)大會(huì)上，Wyse Technology公司CEO Ta
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Applied Materials發(fā)布突破性的3D晶體管技術(shù)
Applied Materials日前發(fā)布新的Applied Centura ConformaTM系統(tǒng)，采用突破性的投影等離子體摻雜技術(shù)（Conformal Plasma Doping），可實(shí)現(xiàn)先進(jìn)的用于下一代邏輯和存儲(chǔ)芯片的3D晶體管結(jié)構(gòu)。Applied Materials Unveils
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宏力宣布量產(chǎn)Cypress 90nm技術(shù)
領(lǐng)先的多元化技術(shù)代工廠商宏力半導(dǎo)體宣布已為其戰(zhàn)略客戶Cypress Semiconductor對(duì)采用193nm光刻技術(shù)和低成本BEOL技術(shù)的異步SRAM工藝量產(chǎn)進(jìn)行了全面認(rèn)證。這一里程碑是宏力已計(jì)劃的眾多先進(jìn)工藝技術(shù)中首個(gè)，有助于宏力
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