據(jù)中國科學院微電子研究所消息，目前，微電子所韋亞一研究員團隊已幫助積塔半導體完成5輪OPC工作并順利流片，直接支撐了積塔半導體在0.18納米技術節(jié)點的量產(chǎn)工藝研發(fā)，同時幫助積塔半導體建立OPC研發(fā)團隊。

2018-2019年度，微電子所韋亞一研究員率領先導中心計算光刻研發(fā)中心團隊與上海積塔半導體有限公司，圍繞集成電路先進光刻制造光學鄰近效應修正開展了深度合作。

合作中，韋亞一團隊與上海積塔半導體就實際生產(chǎn)面臨的光學臨近修正問題，根據(jù)其工藝和產(chǎn)品特征，開展了光源優(yōu)化、OPC建模、版圖優(yōu)化以及硅驗證等工作。

本次合作是微電子韋亞一團隊繼與中芯國際、長江存儲等國內(nèi)集成電路制造企業(yè)合作之后，再次對實際制造產(chǎn)業(yè)企業(yè)進行指導，幫助企業(yè)建立光學臨近效應的修正流程，助其突破關鍵技術實現(xiàn)量產(chǎn)。

上海積塔半導體項目位于臨港重裝備產(chǎn)業(yè)區(qū)，總投資359億元，是上海市政府與中國電子信息產(chǎn)業(yè)集團合作協(xié)議的重要內(nèi)容，也是其中第一個落地的重大產(chǎn)業(yè)項目。項目目標是建設月產(chǎn)能6萬片的8英寸生產(chǎn)線和5萬片12英寸特色工藝生產(chǎn)線，將打造面向工業(yè)控制和汽車電子等高端應用的特色工藝生產(chǎn)線。