光刻機(jī)是目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，芯片制造的核心設(shè)備之一，除了可以用來(lái)生產(chǎn)芯片，還有用于封裝的光刻機(jī)、LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司——荷蘭ASML公司。去年共銷(xiāo)售26臺(tái)EUV光刻機(jī)，用于臺(tái)積電、三星的7nm和5nm工藝制造。

最近有報(bào)道指出，ASML正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列，最快會(huì)于2021年面世。

據(jù)了解，現(xiàn)在ASML銷(xiāo)售的光刻機(jī)主要為NXE:3400B和改進(jìn)型的NXE:3400C，結(jié)構(gòu)上相似。差別在于NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì)，將平均維護(hù)時(shí)間從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí)；NXE:3400C的產(chǎn)量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機(jī)屬于第一代，物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0.33。

在光刻機(jī)的分辨率公式中，NA數(shù)字越大，代表光刻機(jī)精度更高。ASML現(xiàn)在在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列，NA為0.55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利時(shí)微電子中心。

據(jù)悉，EXE:5000系列EUV光刻機(jī)主要面向3nm時(shí)代，目前臺(tái)積電和三星的制程工藝路線(xiàn)圖已經(jīng)到了3nm，要想讓技術(shù)盡快落地到實(shí)際，EXE:5000系列EUV光刻機(jī)的研發(fā)極為重要。

據(jù)ASML的爆料，EXE:5000系列EUV光刻機(jī)樣機(jī)最快會(huì)于2021年面世，最快可能會(huì)于2023年或者2024年上市。