3月16日消息，據國外媒體報道，在推出兩代極紫外光刻機之后，阿斯麥公司又已在研發(fā)下一代極紫外光刻機，計劃2022年年初開始出貨。

阿斯麥是在2019年的年報中，披露他們正在研發(fā)下一代極紫外光刻機的，計劃在2022年年初開始出貨，2024/2025年大規(guī)模生產。

在年報中，阿斯麥還披露，他們正在研發(fā)的下一代極紫外光刻機，將采用 High-NA技術，有更高的數值孔徑，分辨率和覆蓋能力較他們當前的極紫外光刻機將提高70%。

光刻機是芯片生產中非常關鍵的設備，在工藝提升到7nm EUV、5nm之后，已只有極紫外光刻機能滿足要求，阿斯麥則是目前唯一能制造極紫外光刻機的廠商。

阿斯麥所生產的極紫外光刻機，光源的波長縮短到了13.5nm，而極紫外光刻機之前最先進的深紫外光刻機，使用的則是波長為193nm的光源。

作為目前全球唯一有能力制造極紫外光刻機的廠商，阿斯麥已經推出了兩款極紫外光刻機，分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，可用于生產7nm和5nm的芯片，后者是最新推出的，去年共交付了9臺。

阿斯麥的年報顯示，他們去年共向客戶交付了26臺極紫外光刻機，較2018年的18臺增加了8臺，帶來了27.997億歐元（折合約31.43億美元）的營收。