光刻機是半導體生產制造流程的核心設備，由于技術復雜、技術壟斷，導致價格昂貴。

最近，光刻機全球領導廠商荷蘭ASML發(fā)布最新報告，ASML宣布，今年一季度，他們共獲得了73 臺光刻機訂單，其中 11 臺是極紫外EUV光刻機。這 73 臺光刻機訂單中，有 72 臺將是新生產的光刻機，另外 1 臺則是翻新的光刻機。據介紹，這73 臺光刻機訂單金額高達 30.85 億歐元，其中11臺EUV光刻機的訂單金額為15億歐元。

根據ASML此前的財報數據，2019年Q1,ASML獲得的光刻機訂單是 34 臺，金額 13.99 億歐元。相比去年一季度，無論是訂單數量還是訂單金額，ASML在今年一季度都實現了暴增。

從高端的極紫外EUV光刻機訂單量來看，ASML去年的財報顯示，2019年ASML全年共計出貨26臺EUV光刻機，而今年僅一季度就獲得了11臺EUV光刻機訂單，可以預計，今年在EUV光刻機的出貨量上，也要遠超去年。

根據最新的訂單金額，21ic小編粗算了一下，最高端的EUV光刻機每臺大約10億元人民幣，即便是中低端的光刻機產品，每臺也要約2億元人民幣。

這么昂貴的設備，ASML的光刻機都賣給了誰呢?

光刻機是半導體生產的必備設備，全球的晶圓廠、代工廠原則上都是ASML的潛在客戶，尤其是在EUV光刻機產品上，ASML是獨家供貨商。根據去年的數據，其售出的26臺極紫外線(EUV)光刻機中的一半左右賣給了臺積電公司。

中國的晶圓代工企業(yè)中芯國際也向ASML預定了極紫外EUV光刻機，但遺憾的是，由于種種原因，目前仍未能到貨。

不過，雖然沒有EUV光刻機，但據中芯國際梁孟松介紹，中芯國際已研發(fā)了N+1、N+2工藝，N+1與現在的14nm工藝相比，性能有20%的提升，功耗將會降低50%，并且SoC面積對比減小55%。如果從性能上來看，該工藝與7nm稍有差距，但是功耗要低得很多。可以看出，基本上，中芯國際N+1、N+2工藝已十分接近7nm工藝，該技術將于2020年底開始試驗產能。