極紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常常被稱作EUV光刻。光刻機決定著半導(dǎo)體工藝的制程工藝，7nm以及以上的工藝離不開EUV光刻機，EUV光刻技術(shù)使晶體管密度和性能都變得更好。因而EUV光刻機成為眾多半導(dǎo)體廠商的心頭之好。

有消息稱，荷蘭政府將根據(jù)瓦森納國際協(xié)議，禁止阿斯邁公司向中國出口極紫外光刻機。美國施壓荷蘭，禁止向中國出口 EUV 光刻機，美國方面為“阻止荷蘭向中國出售芯片制造技術(shù)”，暗中進行了大量工作。據(jù)悉，美國的單方面 “阻止運動” 開始于 2018 年，荷蘭政府向 ASML 發(fā)放了出口許可證，允許其向中國公司中芯科技出口一臺價值 1.5 億美元的 EUV 光刻機。

據(jù)消息人士透露，在荷蘭政府發(fā)放出口許可證之后的幾個月中，美國的政府官員仔細研究了他們是否可以徹底阻止出售，并與荷蘭政府相關(guān)人士進行了至少四輪談判。

而對于此前已經(jīng)購買的價值 1.5 億美元的 EUV 光刻機，原計劃應(yīng)在 2019 年年初就交付到中國。不過，后來 ASML 方面因倉庫遇火延后了 EUV 光刻機的交付時間，改為在 2020 年的年中交付。

在媒體首次報道延遲交貨時，荷蘭 ASML 公司表示，公司仍在等待新許可證申請的批準(zhǔn)，并拒絕進一步給予評論。

另外，對于美國政府的施壓的說法，荷蘭外交部發(fā)言人在 1 月 15 日表示，在決定是否簽發(fā)出口許可證時，荷蘭政府要權(quán)衡經(jīng)濟和安全利益。

關(guān)于此事，中國方面也表明了態(tài)度。2020 年 1 月 17 日，據(jù)《金融時報》報道，中國駐荷蘭大使徐宏在采訪中表示，如果媒體報道屬實，即如美國向荷蘭施壓，荷蘭政府因此不再批準(zhǔn)向中國出口 EUV 光刻機，那么這種做法就是典型的將商業(yè)問題政治化。按照相關(guān)法律及國際協(xié)議，美國沒有理由要求荷方限制 ASML 對華出口。

另外，徐宏還表示，希望荷蘭政府能綜合考慮自身利益、荷蘭企業(yè)利益，本著公平貿(mào)易及法治的精神，作出正確判斷。如果荷蘭政府在政策取向上追隨美國，基于政治原因?qū)χ泻山?jīng)貿(mào)往來施加不公平的限制，毫無疑問將會影響兩國合作。因為所有的合作都應(yīng)當(dāng)是對等互惠的。

EUV 光刻機是何物?

在主流微電子制造過程中，光刻是最復(fù)雜、昂貴和關(guān)鍵的工藝，占總成本的 1/3;目前的 28nm工藝則需要 20 道以上光刻步驟，耗費時間約占整個硅片工藝的 40-60%。

光刻工藝決定著整個 IC 工藝的特征、尺寸，代表著工藝技術(shù)發(fā)展水平。由于高技術(shù)要求，光刻機制造難度極大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造，主要有 ASML、Nikon 和 Canon 等。

而 EUV 光刻機作為現(xiàn)今最先進的芯片制造設(shè)備，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因此，其也被稱為“突破摩爾定律的救星”。也就是說，必須使用 EUV 光刻機才能使半導(dǎo)體芯片進入 7nm，甚至 5nm 時代。

在 EUV 光刻機的生產(chǎn)上，ASML 公司是該領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，同時也是全球唯一能生產(chǎn) EUV 的企業(yè)。

據(jù)了解，ASML 的設(shè)備使用由激光產(chǎn)生，并通過巨型鏡子聚焦的極紫外光束，在硅片上鋪設(shè)非常狹窄的電路。這能讓廠商制造更快、更強大的微處理器、內(nèi)存芯片和其他先進元件;而這些元件不論是對消費類電子產(chǎn)，還是對軍事應(yīng)用來說都至關(guān)重要。

目前，國內(nèi)光刻機廠商有上海微電子、中電科集團四十五研究所、合肥芯碩半導(dǎo)體等，但由于技術(shù)難度巨大，但短期內(nèi)還是處于相對劣勢的地位。我國光刻機與世界先進水平的差距在于制造工藝的差距，唯有突破技術(shù)，才能突破封鎖。