中國上海，2020 年 6 月 5日 — 內存和存儲解決方案領先供應商 Micron Technology Inc. 今日宣布舉辦紫外線機器人設計挑戰(zhàn)賽，以滿足市場對于可靠、低成本的紫外線機器人解決方案日益增長的需求。這些紫外線機器人將具備自動化消毒能力，從而潛在抑制新冠病毒和其他疾病傳播。微生物通?？稍谖矬w表面存活較長時間，而紫外線殺菌 (UVGI) 已被證明可以破壞病毒 RNA，從而抑制這些微生物的傳播。

該挑戰(zhàn)賽由美光主導，邀請機器人領域充滿激情的工程師、發(fā)明家和專業(yè)人士，以個人或團隊形式參賽，通過協(xié)作、開源的方式提交完整的設計方案。作為項目的一部分，美光將配備在專業(yè)技能方面具有豐富經驗的導師，為參賽者或參賽團隊的設計概念提供咨詢服務。與此同時，美光基金會已經與多家世界知名大學開展合作，鼓勵這些院校的學生踴躍報名參賽，將他們的創(chuàng)意、創(chuàng)新、工程學原理與社會實踐相結合。

美光科技公司業(yè)務發(fā)展副總裁 Rene Hartner表示： “美光發(fā)起紫外線機器人設計挑戰(zhàn)賽，旨在激勵開發(fā)創(chuàng)新和高性價比解決方案，幫助在當下及未來抑制新冠病毒和其他由病原體傳播的疾病。我們的目標是在 8 月底之前收集設計構思，并利用美光豐富的內部資源、行業(yè)專長及合作伙伴，攜手全球最為卓越的工程師群體，力求為我們所在的社區(qū)做出巨大貢獻?！?

在本次紫外線機器人設計挑戰(zhàn)賽之前，美光已承諾投入3,500 萬美元，其中包括1,000 萬美元的美光基金會救助資金，用以幫助受到新冠疫情不同程度影響的人們。該筆承諾款項還包括提升公司-員工配捐幅度，通過補助金的形式為團隊成員提供經濟支持，以及非現(xiàn)金類援助，例如，加快向小型企業(yè)供應商付款流程，為應急醫(yī)療提供設施和物資捐助等。