一、應(yīng)用背景：

磁控濺射是一種磁控運行模式的二次濺射。此種技術(shù)廣泛應(yīng)用于鍍膜設(shè)備上，它不僅適用于廣泛的鍍膜靶材（如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料），而且鍍膜時還可大幅度提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度和均勻度。

磁控濺射鍍膜設(shè)備主要是使用直流磁控濺射，常需要2路輸出穩(wěn)定的直流電源，設(shè)定一個電壓值后，要求快速響應(yīng)到電壓的設(shè)定值。電源使用過程中必須保持穩(wěn)定性，電壓數(shù)值不能受負載影響。然而，市面上常用的開關(guān)電源為開環(huán)控制，無法確保穩(wěn)定輸出，而一個穩(wěn)定的電壓對鍍膜好壞至關(guān)重要，因此設(shè)想通過PLC的PID算法，利用現(xiàn)有的直流開關(guān)電源，實現(xiàn)電源的快速調(diào)節(jié)和閉環(huán)管理。

如下圖所示，在智能電源控制系統(tǒng)上需要4AI來檢測兩路直流穩(wěn)壓電源的電流信號和電壓信號，作為智能電源的反饋信號；需要使用2AO來控制電壓輸出，使電源具有良好的負載特性，保持恒壓輸出。