臺(tái)積電最近舉行了年度技術(shù)研討會(huì)，在會(huì)上透露了大量關(guān)于未來芯片制造業(yè)務(wù)的信息。其中包括關(guān)于臺(tái)積電先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的新細(xì)節(jié)，比如 N5、N4、N3 和 N12e。

此外，臺(tái)積電也透露了其在尖端制造實(shí)力方面的情況。臺(tái)積電現(xiàn)在占據(jù)了業(yè)界 EUV(極紫外光)設(shè)備安裝量的 50%。臺(tái)積電還擁有約 60% 的 EUV 晶圓累計(jì)產(chǎn)量。

臺(tái)積電的 N7 + 制程是該公司第一個(gè)利用 EUV 光刻技術(shù)的節(jié)點(diǎn)，而該公司的 N5 制程將更加傾向于使用 EUV 光刻技術(shù)。此外，5nm 以后的任何產(chǎn)品都將廣泛采用 EUV 光刻技術(shù)。

目前已知的大廠公開的 EUV 工藝包括臺(tái)積電的 7 + 和 N5，以及三星的 7LPP(以及下面的任何工藝)，英特爾的 EUV 工藝要到明年才進(jìn)入自己的 7nm 產(chǎn)品。

ASML 是唯一一家生產(chǎn)和銷售 EUV 光刻設(shè)備的公司，按照 Cutress 的估計(jì)，臺(tái)積電已經(jīng)從 ASML 購買了 30-35 臺(tái)設(shè)備。據(jù)此估算，ASML 已售出約 70 臺(tái)機(jī)器，到 2020 年底可能會(huì)賣到 90 臺(tái)。

值得一提的是，臺(tái)積電的說法是 “已安裝的 EUV”機(jī)器，而從拿到零件到校準(zhǔn)機(jī)器使用，需要長達(dá) 6 個(gè)月的時(shí)間。因此，目前這些晶圓廠中，有部分 EUV 機(jī)器還在閑置等待安裝，或者可能只是在早期測試或預(yù)風(fēng)險(xiǎn)試驗(yàn)中使用。

GlobalFoundries 有兩臺(tái)早期的 EUV 機(jī)器，安裝了一臺(tái)，但最后決定不追求領(lǐng)先的 7nm 工藝，將兩臺(tái)機(jī)器都賣掉了，而中芯國際也訂購了一臺(tái)，但據(jù)悉由于美國的限制，并沒有安裝。