1972年，中國的光刻機(jī)
[導(dǎo)讀]1972年，武漢無線電元件三廠編寫的《光刻掩膜版的制造》32開66頁，證實(shí)中國芯片光刻工藝研究的起步時(shí)間，比美國稍晚，跟日本差不多同時(shí)起步，比臺(tái)韓早了10年。
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