近日，有媒體報道稱，由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限，而全球芯片產(chǎn)能卻不斷擴產(chǎn)，因此占據(jù)全球光刻膠市場份額超兩成的日本供應商信越化學向中國大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠，且已通知更小規(guī)模晶圓廠停止供貨KrF光刻膠。

這意味著，國內(nèi)多家晶圓廠將會面臨KrF光刻膠大缺貨的處境，例如中芯國際、華宏、士蘭微等晶圓廠或無原材料可用！

光刻膠的重要性不輸光刻機

要知道，芯片設計軟件在美國，光刻機在荷蘭，光刻膠在日本。雖然光刻膠的市場規(guī)模不大，但它卻對芯片制造至關重要！

光刻膠又稱光致抗蝕劑，它是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分構成的對光敏感的混合液體。光刻膠是利用光化學反應，經(jīng)光刻工藝將所需要的微細圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移媒介。其作用原理是利用紫外光、準分子激光、電子束、離子束、X射線等光源照射或輻射光刻膠，使其溶解度發(fā)生變化，最終得以在晶圓上刻蝕出需要的圖形。

光刻膠的質(zhì)量和性能，是影響半導體芯片性能的關鍵因素。光刻和刻蝕技術是精細線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸。據(jù)估算，光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的30%，并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%-50%。因此，半導體光刻膠是芯片制造的核心材料。

光刻膠市場，日本一家獨大

由于光刻膠具有極高的行業(yè)壁壘，因此其市場呈現(xiàn)了寡頭壟斷的局面。目前，全球光刻膠市場排名前五的企業(yè)分別是日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、住友化學、信越化學，以及美國羅門哈斯。這五大廠商幾乎占據(jù)了全球光刻膠市場87%的份額，行業(yè)集中度非常高。

值得注意的是，僅日本JSR、東京應化、日本信越與富士電子材料的市占率之和就達到了72%；并且高分辨率的KrF和ArF光刻膠核心技術也被日本和美國企業(yè)所壟斷，比如陶氏化學、JSR株式會社、信越化學、東京應化工業(yè)，以及Fujifilm等企業(yè)。從整個市場來看，日本幾乎成為了光刻膠行業(yè)的巨頭集中營。

事實上，除了光刻膠之外，日本擁有絕對地位的半導體材料品種還有很多。根據(jù)廣發(fā)證券此前發(fā)布的研究報告顯示，生產(chǎn)半導體芯片需要19種必須的材料，缺一不可，且大多數(shù)材料具備極高的技術壁壘。而日本企業(yè)在硅晶圓、合成半導體晶圓、光罩、光刻膠、藥業(yè)、靶材料、保護涂膜、引線架、陶瓷板、塑料板、TAB、COF、焊線、封裝材料等14種重要材料方面，均占有50%及以上的份額。由此可見，在半導體材料領域，日本是絕對的霸主。

光刻膠國產(chǎn)化，任重而道遠

然而，我國一直以來都只能生產(chǎn)低端光刻膠，并且能夠批量供應KrF、ArF光刻膠的廠商卻為數(shù)不多。

根據(jù)SEMI的數(shù)據(jù)顯示，日本幾大廠商在g線/i線、KrF、ArF膠的市占率分別為61%、80%、93%；而我國g線/i線的自給率僅為20%，KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚無國內(nèi)企業(yè)可以大規(guī)模生產(chǎn)。所以，高端的光刻膠一直被日本、美國所壟斷。

不過，值得欣慰的是，近年來國內(nèi)企業(yè)正在從低端光刻膠向中高端光刻膠逐步攻克。目前，國內(nèi)在半導體高端光刻膠發(fā)展較好的上市企業(yè)主要有晶瑞股份、容大感光、上海新陽、南大光電，其各自的產(chǎn)品線和發(fā)展進程如下：

盡管國內(nèi)晶圓廠將要面臨日本光刻膠“斷供”危機，但21ic家認為，這也恰好給國產(chǎn)替代按下了“快進鍵”。未來，隨著本土光刻膠廠商實現(xiàn)KrF、ArF光刻膠研發(fā)完畢順利完成客戶驗證后，國產(chǎn)替代將迎來高峰期，我國將不再受“卡脖子”威脅。