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[導(dǎo)讀]Intel前天宣布了全新的工藝路線圖,一個最核心的變化就是改名:10nmEnhancedSuperFin改名為Intel7,7nm改名為Intel4,未來還有Intel3,以及全新晶體管架構(gòu)的Intel20A、Intel18A。Intel表示,此前的工藝節(jié)點命名規(guī)則始于1997年...

Intel前天宣布了全新的工藝路線圖,一個最核心的變化就是改名:10nm Enhanced SuperFin改名為Intel 7,7nm改名為Intel 4,未來還有Intel 3,以及全新晶體管架構(gòu)的Intel 20A、Intel 18A。
Intel表示,此前的工藝節(jié)點命名規(guī)則始于1997年,都是以實際的柵極寬度來定義(xxnm),但是近些年來,工藝命名和柵極寬度已經(jīng)不匹配,因此Intel啟用了新的命名方式,便于產(chǎn)業(yè)、客戶、消費者理解。
Intel 7工藝號稱能耗比相對于10nm SuperFin提升大約10-15%,今年底的Alder Lake 12代酷睿首發(fā),明年第一季度還有Sapphire Rapids四代可擴展至強。

Intel 4工藝全面引入EUV極紫外光刻,能效比再提升大約20%,明年下半年投產(chǎn),2023年產(chǎn)品上市。
首發(fā)消費級產(chǎn)品是Meteor Lake,已在今年第二季度完成計算單元的六篇,數(shù)據(jù)中心產(chǎn)品則是Granite Rapids。
Meteor Lake預(yù)計將隸屬于14代酷睿家族,它之前還有一代Raptor Lake,后者也是Intel 7工藝。

今天的會議上,Intel也首次展示了Meteor Lake的測試晶圓,除了新工藝還有Foveros 3D立體封裝。
這一代,也將是Intel消費級處理器第一次放棄完整的單顆芯片,引入不同工藝、不同IP的模塊,借助新的封裝技術(shù),整合在一起。

再往后,Intel 3工藝進一步優(yōu)化FinFET、提升EUV,能效比繼續(xù)提升大約18%,還有面積優(yōu)化,2023年下半年投產(chǎn)。
它也是最后一代FinFET晶體管,2011年的22nm二代酷睿Ivy Bridge第一次引入。

之后就是后納米時代了,工藝命名又改了新的規(guī)則,首先是Intel 20A,擁有兩項革命性技術(shù),RibbonFET就是類似三星的GAA環(huán)繞柵極晶體管,PoerVia則首創(chuàng)取消晶圓前側(cè)的供電走線,改用后置供電,也可以優(yōu)化信號傳輸。2024年投產(chǎn)。
接下來是Intel 18A,預(yù)計2025年初投產(chǎn),繼續(xù)強化RibbonFET,還有下一代高NA EUV光刻,與ASML合作。

RibbonFET晶體管
PowerVia
傳統(tǒng)晶圓(左)、Powervia晶圓(右)供電和信號走線對比:圖片上方對應(yīng)晶圓前側(cè)




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電源系統(tǒng)設(shè)計

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