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[導讀]ASML大家都不陌生,它是全球最頂尖的光刻機巨頭,旗下的EUV光刻機更是目前最先進的半導體設備之一,可用于生產(chǎn)7nm和5nm芯片。之前,國內(nèi)一直都想要從ASM那里進口一臺EUV光刻機,但卻始終買不到,這也導致國人對ASML這家公司的態(tài)度并不是很好。

ASML大家都不陌生,它是全球最頂尖的光刻機巨頭,旗下的EUV光刻機更是目前最先進的半導體設備之一,可用于生產(chǎn)7nm和5nm芯片。之前,國內(nèi)一直都想要從ASM那里進口一臺EUV光刻機,但卻始終買不到,這也導致國人對ASML這家公司的態(tài)度并不是很好。

ASML是一家總部設在荷蘭埃因霍芬的全球知名半導體設備制造商,可為全球復雜集成電路生產(chǎn)企業(yè)提供領先的綜合性關鍵設備,EUV光刻機是其最為業(yè)界所熟知的晶圓制造環(huán)節(jié)核心設備。臺積電則是ASML生產(chǎn)EUV光刻機最大的行業(yè)客戶與受益者,網(wǎng)絡公開信息整理顯示,臺積電已經(jīng)獲得ASML生產(chǎn)EUV設備的一半,目前擁有約50臺EUV光刻機。

眾所周知,此前ASML的主要客戶是臺積電和三星,二者身為全球排名前二的芯片代工廠,對光刻機的需求非常高,每年都需要從ASML大量購買。尤其是臺積電,相關數(shù)據(jù)表明,在前些年ASML有70%以上的EUV光刻機,都優(yōu)先供貨給了臺積電。

因為缺芯、臺積電和地緣政治等多種因素的影響,大家對半導體產(chǎn)業(yè)的關注度火速提升。這也讓ASML這些原本在背后默默支持半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的企業(yè)被“趕”到了臺前。

作為全球領先的半導體設備供應商,這家來自荷蘭的企業(yè)提供了全球芯片生產(chǎn)都繞不開的關鍵設備——光刻機。

尤其是在EUV光刻機方面,市場的關注度更是空前。這一方面是因為這個設備是芯片制造工藝走向7nm以下的關鍵;另一方面,這個設備的售價高達上億美金,且只有ASML一家能做。因此其吸引了全球那么多的目光也情有可原。

正如很多分析人士所說,EUV光刻機真可以稱得上是芯片制造的“皇冠”。

據(jù)業(yè)內(nèi)透露,截至第二季度,ASML EUV 設備出貨總量達到 102 臺,隨著需求量的提高和客戶群的擴大,預計 2 年內(nèi)累計供應量將增加 2 倍以上,標志著 EUV 時代正式拉開帷幕。

ASML擴大EUV設備供應響應了半導體制造業(yè)實現(xiàn)超微電路層的需求。盡管每臺設備的價格達到1.71億美元,但由于其卓越的工藝成本和省時效果,可以抵消設備采購的成本。業(yè)內(nèi)人士指出,通過EUV可以降低設備成本和工藝成本,因此,在微加工領域引進EUV設備的企業(yè)越來越多。

根據(jù)ASML的說法,5-7nm邏輯半導體(以每月45,000顆晶圓為基準)每個EUV層需要一臺EUV設備,16nm及以下節(jié)點DRAM(以每月100,000顆晶圓為基準)每個EUV層則需要1.5-2臺設備。三星電子計劃,到今年下半年為止,將14nm DDR5 DRAM的EUV應用層數(shù)從1層增加到5層,SK海力士也計劃增加EUV應用層數(shù),因此,預計EUV設備的需求將進一步增加。

除了EUV層的增加,EUV設備的客戶群也在逐漸擴大。繼2018年三星電子首次引進7nm制程的EUV設備后,臺積電和SK海力士也加入了EUV競爭。美國的美光和英特爾也在推進EUV設備的引進,預計市場規(guī)模將進一步擴大。

據(jù) ETNews 報道,過去四個季度(2020 年第三季度-2021 年第二季度),ASML EUV 設備出貨總計 40 臺,較之前四個季度(2019 年第三季度-2020 年第二季度)增長了 66%。ASML 今年的出貨目標是 40 臺左右,下半年將供應 25 臺左右。

ASML 擴大 EUV 設備供應響應了半導體制造業(yè)實現(xiàn)超微電路層的需求。盡管每臺設備的價格達到 1.71 億美元,但由于其卓越的工藝成本和省時效果,可以抵消設備采購的成本。業(yè)內(nèi)人士指出,通過 EUV 可以降低設備成本和工藝成本,因此,在微加工領域引進 EUV 設備的企業(yè)越來越多。

根據(jù) ASML 的說法,5-7nm 邏輯半導體(以每月 45,000 顆晶圓為基準)每個 EUV 層需要一臺 EUV 設備,16nm 及以下節(jié)點 DRAM(以每月 100,000 顆晶圓為基準)每個 EUV 層則需要 1.5-2 臺設備。三星電子計劃,到今年下半年為止,將 14nm DDR5 DRAM 的 EUV 應用層數(shù)從 1 層增加到 5 層,SK 海力士也計劃增加 EUV 應用層數(shù),因此,預計 EUV 設備的需求將進一步增加。

昨日,韓國存儲廠商SK海力士宣布,公司第一代使用EUV光刻機生產(chǎn)的DRAM正式量產(chǎn)。

據(jù)介紹,公司旗下第四代 10 納米級(1a)制程8Gigabit(Gb)LPDDR4 移動設備專用DRAM已經(jīng)量產(chǎn)。作為SK海力士旗下首款采用EUV生產(chǎn)的DRAM,與上一代產(chǎn)品相比,新產(chǎn)品可以將使相同尺寸晶圓生產(chǎn)的 DRAM 芯片數(shù)量增加 25%,并能將功耗降低20%。

在更早之前,三星已經(jīng)率先量產(chǎn)了使用EUV光刻機生產(chǎn)的DRAM,在過去多年稍顯保守的美光也宣布,將在2024年生產(chǎn)基于EUV的DRAM。至此,三大DRAM大廠都跨入了EUV時代。

EUV層數(shù)的增加,無疑將推動產(chǎn)業(yè)對EUV光刻機的進一步需求。業(yè)界也積極預測,EUV時代將全面加速。

據(jù)悉,對此,AMSL也有意將EUV光刻機年產(chǎn)量從現(xiàn)有的40臺提升到2022年的55臺,直至2023年的60臺產(chǎn)能,以保證市場有超過240臺的EUV設備在運行。

AMSL對EUV光刻機的產(chǎn)量提升,主要來自下游臺積電、三星、英特爾以及SK海力士等半導體制造商的強烈需求,即使這臺設備的平均造價已達到驚人的1.5億美元(約合人民幣10億元)。為此,這家2021年全球最受尊敬企業(yè)正致力于不斷提升其產(chǎn)能。

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