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[導(dǎo)讀]據(jù)海外媒體消息,臺(tái)積電的光刻機(jī)供貨商Mapper公司已將300mm光刻設(shè)備交貨日延期近三個(gè)月之久。Mapper的多束電子束(e-beam)光刻機(jī)原計(jì)劃于今年第一季度裝備臺(tái)積電300m m工廠,但由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨

據(jù)海外媒體消息,臺(tái)積電光刻機(jī)供貨商Mapper公司已將300mm光刻設(shè)備交貨日延期近三個(gè)月之久。Mapper的多束電子束(e-beam)光刻機(jī)原計(jì)劃于今年第一季度裝備臺(tái)積電300m m工廠,但由于技術(shù)上的原因Mapper公司拖延了交貨日期,此舉可能對(duì)臺(tái)積電的制程研發(fā)進(jìn)度造成一定的影響。

據(jù)了解,臺(tái)積電CEO蔡力行曾稱臺(tái)積電已在與合作伙伴聯(lián)合開發(fā)22nm及更高規(guī)格制程用多束e-beam光刻技術(shù),以便公司盡早實(shí)現(xiàn)向32nm制程的轉(zhuǎn)換。

據(jù)悉,2008年十月份,臺(tái)積電與Mapper公司簽署了一份供貨協(xié)議,根據(jù)這份協(xié)議,Mapper將為臺(tái)積電制造30 0mm多束e-beam光刻設(shè)備用于制程開發(fā),并為該公司提供光刻原型機(jī)。

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