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[導讀]美國IBM與韓國三星電子宣布,決定共同開發(fā)20nm以后的半導體工藝。開發(fā)的工藝將用于兩公司的制造受托(代工)業(yè)務等。 此前兩公司在半導體領域就一直在進行各種合作。其中,邏輯工藝的共同開發(fā)從2005年開始,開發(fā)

美國IBM與韓國三星電子宣布,決定共同開發(fā)20nm以后的半導體工藝。開發(fā)的工藝將用于兩公司的制造受托(代工)業(yè)務等。

此前兩公司在半導體領域就一直在進行各種合作。其中,邏輯工藝的共同開發(fā)從2005年開始,開發(fā)出了65nm、45nm及32nm工藝。據(jù)稱,此次就是這種共同開發(fā)的進一步發(fā)展。

例如,將形成一種更密切、從更深的基礎研發(fā)開始的共同開發(fā)體制等。三星的研究開發(fā)人員將在位于紐約州奧爾巴尼的奧爾巴尼納米技術研究中心(Albany Nanotech Complex),與從事半導體研發(fā)聯(lián)盟(Semiconductor Research Alliance)工作的IBM的研究開發(fā)人員匯聚一堂,開發(fā)新材料、晶體管構(gòu)造及安裝技術。開發(fā)的工藝旨在適用于移動計算及云計算等廣泛的領域。

發(fā)布資料中介紹了三星的ES Jung(LSI系統(tǒng)部門技術研發(fā)高級副總裁)和IBM的邁克爾·卡迪甘(Michael Cadigan,微電子部門總經(jīng)理)的發(fā)言。兩人均強調(diào)了從基礎研究開始共同開發(fā)的意義。(記者:小島 郁太郎)

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