美國應用材料公司發(fā)布了能夠削減制造裝置附帶的真空泵及除害裝置等的能源消耗量,將運行成本較原來削減20%以上的系統“Applied iSYS”。首先將面向該公司的CVD裝置提供,將來還計劃應用于蝕刻裝置。
Applied iSYS根據制程艙內的情況控制真空泵和除害裝置的運行。比如,應用于CVD裝置時,在成膜時及清潔時運行真空泵和除害裝置,其他時間使其處于備用狀態(tài)。這樣,可減少用電量及煤氣用量等。應用于半導體工廠的全部CVD工序時,每年可削減真空泵和除害裝置等的運行成本200萬美元以上。
據應用材料公司介紹,大型半導體廠商已相繼提出能源削減目標。在半導體工廠的能源消耗中,制造裝置占45%,制造裝置所附帶的裝置占42%,其余13%來自照明等。
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